特許
J-GLOBAL ID：200903094797225010
X線縮小投影露光装置及びこれを用いた半導体デバイス製造装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
若林 忠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-223614
公開番号（公開出願番号）：特開平10-070058
出願日： 1996年08月26日
公開日（公表日）： 1998年03月10日
要約：
【要約】【課題】 光量の損失がなく、露光時間が短縮され、スループットを高めることができるX線縮小投影露光装置及びこれを用いた半導体デバイス製造装置を提供する。【解決手段】 スキャン露光によるX線縮小投影露光において、複数の微小な円筒面が平行に配列した反射面をもつ斜入射反射インテグレータ5によって円弧状の領域をケーラー照明する。円弧状の領域のみにX線が照射されるので、光量の損失がなく露光時間が短縮する。
請求項（抜粋）：
X線ビームを放射する光源と、回路パターンが形成されたマスクと、前記光源からの前記X線ビームを前記マスク面上に照明する照明光学系と、前記マスクからの反射ビームをウエハ面上に収束させて前記回路パターンの像を縮小投影する投影光学系とからなるX線縮小投影露光装置において、前記照明光学系は、前記X線ビームを平行X線ビームにする第1の凹面ミラーと、前記平行X線ビームを反射する複数円筒面をもつ反射型インテグレータと、反射された前記平行X線ビームを更に反射して前記マスク面上に照明する第2の凹面ミラーとを備えていることを特徴とするX線縮小投影露光装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 503
, G21K 5/02
H01L 21/30 531 A
, G03F 7/20 503
, G21K 5/02 X
