硬質の基板上に光成形面構造体をコピーするための方法および装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：恩田博宣 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-566107
公開番号（公開出願番号）：特表2002-523259
出願日： 1999年08月24日
公開日（公表日）： 2002年07月30日
要約：

【要約】比較的硬質な基板(ST)の積層面上に光成形面構造体をコピーするための方法および装置(20)。より詳細に説明すると、層状構造体を作るために、基板(ST)をテーブル(24)上に装着し、エポキシ層を基板とサブマスタ(SU)との間に塗布した後で、層状構造体は、テーブルと回転圧縮ローラ(26)の外表面との間に形成されたニップ内で自動的に圧縮され、それにより、エポキシ層内に表面構造体がコピーされる。その後で、エポキシは硬化され、その表面上に光成形面構造体を持つ積層構造体を残すために、サブマスタ(SU)が基板(ST)から分離される。好適には、上記サブマスタは、圧縮ローラの周囲に巻き付けることが好ましく、テーブル(24)が直線的に往復運動をしている間に圧縮ローラ(26)が回転することが好ましい。

請求項（抜粋）：

光成形面構造体をコピーする方法であって、 (A)1)テーブル上に支持されている比較的硬質の基板と、2)前記テーブルに面していて、その表面上に、前記光成形面構造体を持つサブマスタと、3)前記基板と前記サブマスタとの間に塗布されたエポキシ層を含む層状構造体を、圧縮ローラの外表面と前記テーブルとの間に形成されたニップ内に位置させるステップと、 (B)前記エポキシ層の上に前記表面構造体をコピーするために、前記ニップ内で層状構造体を自動的に圧縮するステップと、 (C)前記エポキシ層を硬化するステップと、 (D)その表面上に前記表面構造体を持つ基板/エポキシ積層体を残すために、前記基板から前記サブマスタを分離するステップとを含む方法。

IPC (6件)：

B29C 39/10 , B29C 39/24 , B29K 63:00 , B29K105:20 , B29L 9:00 , B29L 11:00

FI (6件)：

B29C 39/10 , B29C 39/24 , B29K 63:00 , B29K105:20 , B29L 9:00 , B29L 11:00

Fターム (14件)：

4F204AA39 , 4F204AG03 , 4F204AH73 , 4F204EA03 , 4F204EA04 , 4F204EB01 , 4F204EB11 , 4F204EF01 , 4F204EF05 , 4F204EF23 , 4F204EF49 , 4F204EK17 , 4F204EK18 , 4F204EK25

引用特許：

出願人引用 (3件)

特開平2-070412
特開平1-174418
微細パタ-ンの転写加工方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-122371 出願人：株式会社荏原製作所, 畑村洋太郎

審査官引用 (5件)

特開平2-070412
特開平1-174418
特開平2-070412

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