特許

J-GLOBAL ID：200903094877728587

複合材料の作製方法

発明者： 西野 仁 ,  多田 進一 ,  森崎 弘康 ,  森川 茂 ,  山田 良行 ,  坂井 久
出願人/特許権者： 大阪瓦斯株式会社
代理人 (1件)： 北村 修
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-067559
公開番号（公開出願番号）：特開平9-256145
出願日： 1996年03月25日
公開日（公表日）： 1997年09月30日
要約：

【要約】【課題】 レーザーアブレーション法により複合材料を作製する場合に、ターゲットと作製物との間で組成ずれが発生しにくく、所定の組成の薄膜を得る場合に、成膜条件を広く安定して取ることが可能である複合材料の作製方法を得る。【解決手段】 2種以上の成分を所定の組成比で含有するターゲット10を作製するとともに、減圧真空維持される成膜室6内で、基板3に対向させて、ターゲット10を配設し、ターゲット10にレーザー光5を照射してターゲット10よりプルーム15を発生させて基板3上に蒸着させて、レーザーアブレーション法により基板3上に複合材料を作製するに、成膜室6を真空排気した後、成膜室内に不活性ガスを導入して、成膜室内の圧力を0.01〜5Torrに維持して、複合材料を作製する。

請求項（抜粋）：

2種以上の成分を所定の組成比で含有するターゲット(10)を作製するとともに、減圧真空維持される成膜室(6)内で、基板(3)に対向させて、前記ターゲット(10)を配設し、前記ターゲット(10)にレーザー光(5)を照射して前記ターゲット(10)よりプルーム(15)を発生させて前記基板(3)上に蒸着させて、レーザーアブレーション法により前記基板(3)上に複合材料を作製する複合材料の作製方法であって、前記成膜室(6)を真空排気した後、前記成膜室内に不活性ガスを導入して、前記成膜室内の圧力を0.01〜5Torrに維持して、前記複合材料を作製する複合材料の作製方法。

IPC (3件)：

C23C 14/28 ,  H01L 35/16 ,  H01L 35/34

FI (3件)：

C23C 14/28 ,  H01L 35/16 ,  H01L 35/34

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭64-076916
  
• 超微粒子分散材料の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-163054   出願人：日本板硝子株式会社