薄膜磁気ヘッド及びその製造方法

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-023361
公開番号（公開出願番号）：特開2001-209915
出願日： 2000年01月27日
公開日（公表日）： 2001年08月03日
要約：

【要約】【課題】再生信号に上部シールド層の磁歪によるノイズがなく、高記録密度化に対応できる薄膜磁気ヘッドを提供する。【解決手段】上部シールド層を、スパッタ蒸着により形成されたNi-Fe合金下地膜と、電解めっきにより前記下地膜上に形成されたNi-Fe合金めっき膜とから構成し、上部シールド層の厚さ方向のFe組成比分布を17乃至19質量%の範囲とした。

請求項（抜粋）：

軟磁性膜からなる下部シールド層と、該下部シールド層上に非磁性材料からなる下部ギャップ層を介して形成された磁気抵抗素子と、磁気抵抗素子と電気的に接続された電極層と、前記磁気抵抗素子と前記電極層を覆う非磁性材料からなる上部ギャップ層と、該上部ギャップ層上に形成され、前記下部シールド層と前記磁気抵抗素子を挟んで対向する上部シールド層とを有し、前記上部シールド層は、前記上部ギャップ層上にスパッタ蒸着により形成されたNi-Fe合金下地膜と、電解めっきにより前記下地膜上に形成されたNi-Fe合金めっき膜からなり、前記上部シールド層の厚さ方向のFeの組成比分布は17乃至19質量%の範囲であることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。

IPC (2件)：

G11B 5/39 , G11B 5/31

FI (3件)：

G11B 5/39 , G11B 5/31 C , G11B 5/31 K

Fターム (11件)：

5D033BA03 , 5D033BA08 , 5D033BB43 , 5D033DA03 , 5D033DA04 , 5D034BA02 , 5D034BA18 , 5D034BB09 , 5D034BB12 , 5D034CA04 , 5D034DA07

引用特許：

審査官引用 (7件)

複合型薄膜磁気ヘッド
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-058724 出願人：茨城日本電気株式会社
特公昭64-007401
薄膜磁気デバイスおよび薄膜磁気ヘッド
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-179635 出願人：ティーディーケイ株式会社

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