特許
J-GLOBAL ID:200903098095154382

Ni-Fe合金電気めっき方法およびこの方法を用いた Ni-Fe合金めっき膜

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 京本 直樹 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-260124
公開番号(公開出願番号):特開平11-100693
出願日: 1997年09月25日
公開日(公表日): 1999年04月13日
要約:
【要約】【課題】 均一なFe組成比で膜厚制御の容易なNi-Fe合金電気めっき方法およびNi-Fe合金めっき膜を得る。【解決手段】 NiイオンおよびFeイオンを含むめっき浴中に被形成部材を浸漬し、印加する電流をパルス電流とし、このパルス電流の1サイクル時間をめっき時間の経過とともに短く変化させながらNi-Fe合金電気めっき膜を形成する。これにより、組成比が均一で、かつ磁気記録用ヘッドに使用される軟磁性材料として有用なNi-Fe合金電気めっき膜を得る。
請求項(抜粋):
NiイオンおよびFeイオンを含むめっき浴中に被形成部材を浸漬し、所定の電流密度で電気分解により前記基板上にめっきを行うNi-Fe合金電気めっき方法において、印加する電流をパルス電流とし、かつこのパルス電流の1サイクル時間を変化させながらNi-Fe合金電気めっき膜を形成することを特徴とするNi-Fe合金電気めっき方法。
IPC (3件):
C25D 5/18 ,  C25D 3/56 ,  G11B 5/31
FI (4件):
C25D 5/18 ,  C25D 3/56 B ,  G11B 5/31 C ,  G11B 5/31 M
引用特許:
審査官引用 (9件)
全件表示

前のページに戻る