基板処理装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：杉谷勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-152636
公開番号（公開出願番号）：特開平11-342360
出願日： 1998年06月02日
公開日（公表日）： 1999年12月14日
要約：

【要約】【課題】基板処理部へ処理液を送る配管の長さを極力短くするとともに、処理液供給系統の汎用性を高めた基板処理装置を提供する。【解決手段】この基板処理装置は、塗布処理ユニットU1〜U4と、各ユニットU1〜U4に処理液を供給するためのフォトレジスト液供給ユニット20a、20bを備える。各ユニット20a、20bは、装置フレーム5から引き出し可能に構成されたトレイ21上に、レジストボトル22a、22bやポンプ25a、25bなどを搭載して構成されている。フォトレジスト液供給系統を塗布処理ユニットごとにユニット化してあるので、配管30の長さが短くなるとともに、塗布処理ユニットの設置個数に応じてフォトレジスト液供給ユニットを容易に増減させることができ、フォトレジスト液供給系統の汎用性を高めることができる。

請求項（抜粋）：

基板に処理液を供給して所要の処理を施す基板処理部を装置フレーム上に配備し、前記基板処理部に処理液を供給する処理液供給系統を前記装置フレームの内部に収納した基板処理装置において、予め決められた個数の基板処理部に対して処理液を供給する処理液供給系統に含まれる構成部品のうち、少なくとも処理液を貯留する処理液ボトルと、前記処理液ボトル内の処理液を基板処理部に送る送液手段とをまとめて、装置フレームから引き出し可能に構成された可動台に搭載することにより、予め決められた個数の基板処理部ごとに処理液供給系統をユニット化した処理液供給ユニットを構成し、前記処理液供給ユニットは前記可動台の引き出しストロークに見合う長さの余裕をもった処理流通用の配管を介して前記基板処理部に連通接続されていることを特徴とする基板処理装置。

IPC (4件)：

B05C 11/10 , B05C 11/08 , G03F 7/16 501 , H01L 21/027

FI (4件)：

B05C 11/10 , B05C 11/08 , G03F 7/16 501 , H01L 21/30 564 Z

引用特許：

審査官引用 (1件)

レジスト塗布装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-215928 出願人：富士写真フイルム株式会社, 株式会社日立製作所

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