特許

J-GLOBAL ID：200903094942754272

成膜用マスク部材、成膜用マスク部材の製造方法、マスク成膜方法、および成膜装置

発明者： 桑原 貴之
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (3件)： 上柳 雅誉 ,  藤綱 英吉 ,  宮坂 一彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-061349
公開番号（公開出願番号）：特開2008-223067
出願日： 2007年03月12日
公開日（公表日）： 2008年09月25日
要約：

【課題】被処理基板に薄膜を形成した後、被処理基板に成膜用マスク部材を接触する状態で重ねて成膜した場合でも、先に形成した薄膜の損傷や剥離に起因する不具合が発生することのない成膜用マスク部材、成膜用マスク部材の製造方法、マスク成膜方法、および成膜装置を提供すること。【解決手段】マスク蒸着用の成膜用マスク部材10を製造する際、支持基板30に接合されたチップ20の基板接触面20aにプラズマを照射する。その際、導入ガスとしてフッ素系ガスを用いることにより、チップ20の基板接触面20aには撥水性が高いフッ素系重合膜が形成され、基板接触面20aの水に対する接触角が100°以上になる。従って、成膜用マスク部材10の基板接触面20aを被処理基板に対して重ね、この状態で蒸着を行った後、被処理基板から外しても、先に形成された薄膜に剥離などが発生しない。【選択図】図7

請求項（抜粋）：

被処理基板に対する成膜パターンに対応するマスク開口部が形成された成膜用マスク部材において、 前記被処理基板に重ねられる基板接触面の水に対する接触角が100°以上であることを特徴とする成膜用マスク部材。

IPC (3件)：

C23C 14/04 ,  H05B 33/10 ,  H01L 51/50

FI (3件)：

C23C14/04 A ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 A

Fターム (13件)：

3K107AA01 ,  3K107BB01 ,  3K107CC45 ,  3K107GG04 ,  3K107GG33 ,  4K029AA09 ,  4K029AA24 ,  4K029BA62 ,  4K029BB03 ,  4K029CA01 ,  4K029DB06 ,  4K029DB18 ,  4K029HA01

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 蒸着マスク、蒸着方法、有機ELパネルの製造方法および有機EL表示パネル
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-381922   出願人：東北パイオニア株式会社