表面処理方法及びその装置

発明者： , , , ,
出願人/特許権者： , ,
代理人 (1件)：小島隆司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-237838
公開番号（公開出願番号）：特開平6-065739
出願日： 1992年08月13日
公開日（公表日）： 1994年03月08日
要約：

【要約】【構成】絶縁体容器内に被処理物を配置すると共に、該容器の外側又は外側と内側に電極を配置し、前記容器内に所定のガスを供給し、前記電極に電圧を印加して前記容器内に大気圧プラズマを発生させ、前記容器内の被処理物を前記容器内で転動又は浮動させながらその表面を大気圧グロープラズマにより処理する。【効果】本発明によれば、ブロック状,球状等の被処理物の表面を簡単、確実に、しかも均一に処理できる。また、本発明の処理は、大気圧グロープラズマによる処理であるため、処理装置内を減圧しなくてもよく、処理装置の簡素化を図ることができると共に、立体形状物からの揮発性成分のガス化を生じることもなく、効果的に表面処理することができる。

請求項（抜粋）：

絶縁体容器内に被処理物を配置すると共に、該容器の外側に印加電極と接地電極とをそれぞれ配置し、前記容器内に所定のガスを供給し、前記電極に電圧を印加して前記容器内に大気圧プラズマを発生させ、前記容器内の被処理物を前記容器内で転動又は浮動させながらその表面を大気圧プラズマにより処理するようにしたことを特徴とする表面処理方法。

IPC (3件)：

C23C 14/50 , C08J 7/00 306 , H05H 1/30

引用特許：

審査官引用 (9件)

特開平3-115578
特開平2-050968
特開昭58-136701

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