特許
J-GLOBAL ID：200903094946610607

処理液塗布装置

発明者：
木▲崎▼ 幸治

木▲崎▼ 幸治 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (1件)： 小谷 悦司 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-327340
公開番号（公開出願番号）：特開平11-162815
出願日： 1997年11月28日
公開日（公表日）： 1999年06月18日
要約：
【要約】【課題】 互いに厚みの異なる複数種類の基板に対して適切に処理液を塗布できるようにする。【解決手段】 ステージ12に、基板Wを真空吸着するテーブル14と、テーブル14の上方を移動しながら処理液を基板表面に供給するスリットノズルとを設けてスリットコータ10を構成した。ノズルとしては、板厚の異なる二種類の基板にそれぞれ対応する2つのノズル20A,20Bを設けた。各ノズル20A,20Bは、対象となる基板がテーブル14に載置された状態で、共に、基板表面に適切に処理液を供給することができる所定の間隔を保つように、テーブル14に対する高さ位置を設定した。
請求項（抜粋）：
スリット状の液吐出口を備えたノズルにより、基板保持部に保持された基板の表面に処理液を供給するように構成された処理液塗布装置において、上記ノズルとして、第1の基板の表面に処理液を供給する第1のノズルと、第1の基板と厚みの異なる第2の基板の表面に処理液を供給する第2のノズルとを設けるとともに、上記基板保持部に保持された第1の基板と上記第1のノズルとの間隔を所定の間隔に保ちつつ、第1のノズルを第1の基板の表面に沿って相対的に移動させる第1のノズル移動手段と、上記基板保持部に保持された第2の基板と上記第2のノズルとの間隔を上記所定の間隔に保ちつつ、第2のノズルを第2の基板の表面に沿って相対的に移動させる第2のノズル移動手段とを備えたことを特徴とする処理液塗布装置。
IPC (4件)：
H01L 21/027 ,  B05C 5/02 ,  G03F 7/16 502 ,  G03F 7/30 502
FI (4件)：
H01L 21/30 564 Z ,  B05C 5/02 ,  G03F 7/16 502 ,  G03F 7/30 502
引用特許：
出願人引用 (4件)
全件表示
審査官引用 (2件)

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