特許
J-GLOBAL ID：200903094950575190
高エネルギー電子発生方法及びそれを用いた高エネルギー電子発生装置並びに高エネルギーX線発生方法及びそれを用いた高エネルギーX線発生装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
栗原 浩之
, 村中 克年
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-173164
公開番号（公開出願番号）：特開2007-033437
出願日： 2006年06月22日
公開日（公表日）： 2007年02月08日
要約：
【課題】高いエネルギーを有する高エネルギー電子を発生させることができる高エネルギー電子発生方法及びその方法を用いた高エネルギー電子発生装置並びに高いエネルギーを有する高エネルギーX線を発生させることができる高エネルギーX線発生方法及びその方法を用いた高エネルギーX線発生装置を提供する。【解決手段】パルス状のレーザー光線を固体試料60に入射させて高エネルギー電子を発生させる高エネルギー電子発生方法において、パルス状のレーザー光線を固体試料60に入射させる前に、固体試料60の表面又は一部から臨界プラズマ密度以下のプラズマを生成する工程と、プラズマにパルス状のレーザー光線を入射させる工程とを具備する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
パルス状のレーザー光線を固体試料に入射させて高エネルギー電子を発生させる高エネルギー電子発生方法において、
前記パルス状のレーザー光線を前記固体試料に入射させる前に、前記固体試料の表面又は一部から臨界プラズマ密度以下のプラズマを生成する工程と、
前記プラズマに前記パルス状のレーザー光線を入射させる工程とを具備することを特徴とする高エネルギー電子発生方法。
IPC (3件)：
G21K 1/00
, H01J 37/075
, H05G 2/00
G21K1/00 E
, H01J37/075
, H05G1/00 K
4C092AA06
, 4C092AA17
, 4C092AB30
, 4C092AC01
, 4C092AC08
