特許
J-GLOBAL ID：200903058272629971
高エネルギー粒子の発生方法および高エネルギー粒子発生装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
村瀬 一美
, 井口 恵一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-357989
公開番号（公開出願番号）：特開2004-191124
出願日： 2002年12月10日
公開日（公表日）： 2004年07月08日
要約：
【課題】続けて繰り返すことができる照射回数を大幅に増加させる。ターゲットの正確な位置決めを容易にする。【解決手段】巻き取り可能なテープ状のターゲット1と、瞬間的な照射でターゲット1の電離が可能なエネルギーのレーザ光線2をターゲット1に繰り返し照射して高エネルギー粒子3を発生させるレーザ光線照射手段4と、レーザ光線照射手段4がレーザ光線2を照射する毎にターゲット1を巻き取ってレーザ光線2が当たる部分をずらす巻き取り手段5と、ターゲット1のレーザ光線2が当たる部分の周辺の弛みを取る弛み除去手段6と、ターゲット1のレーザ光線2が当たる部分の周辺を位置決めする位置決め手段7を備えている。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
巻き取り可能なテープ状のターゲットに、瞬間的な照射で前記ターゲットの電離が可能なエネルギーのレーザ光線を繰り返し照射し、レーザ光線を照射する毎に前記ターゲットを巻き取ってレーザ光線が当たる部分をずらすとともに、前記ターゲットのレーザ光線が当たる部分の周辺の弛みを取りながら且つ前記部分の周辺を位置決め基準部に当てながら前記照射を行うことを特徴とする高エネルギー粒子の発生方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
引用特許：
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (8件)
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