特許
J-GLOBAL ID:200903095016927089
防汚剤、防汚層の形成方法、光学部材、反射防止光学部材、光学機能性部材及び表示装置
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
鈴江 武彦 (外5名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-018601
公開番号(公開出願番号):特開2000-144097
出願日: 1999年01月27日
公開日(公表日): 2000年05月26日
要約:
【要約】【課題】 種々の被処理基材、特に、反射防止膜等の光学部材の表面に、指紋、皮脂、汗、化粧品等の汚れが付着することを防止し、付着した場合には容易に拭き取れる優れた防汚性の防汚層を、高い耐久性で形成し得る防汚剤を提供する。【解決手段】 下記一般式(1)で表される有機ケイ素化合物を含有する防汚剤である。【化1】(上記般式(1)中、Rf2は炭素数1〜16の直鎖状又は分岐状のパーフルオロアルキル基、R2 は加水分解基、Zは-OOCNH-又は-O-であり、n2は1〜50の整数、m2は0〜3の整数、l2は0〜3の整数、s2は1〜6の整数であり、6≧m2+l2>0である。)
請求項(抜粋):
下記一般式(1)で表される有機ケイ素化合物を含有する防汚剤。【化1】(上記一般式(1)中、Rf2は炭素数1〜16の直鎖状又は分岐状のパーフルオロアルキル基、R2 は加水分解基、Zは-OOCHN-又は-O-であり、n2は1〜50の整数、m2は0〜3の整数、l2は0〜3の整数、s2は1〜6の整数であり、6≧m2+l2>0である。)
IPC (8件):
C09K 3/00 112
, C09K 3/00
, B32B 27/18
, C09D 5/16
, G02B 1/11
, G02B 1/10
, C07F 7/18
, C09D171/00
FI (8件):
C09K 3/00 112 E
, C09K 3/00 112 F
, B32B 27/18 Z
, C09D 5/16
, C07F 7/18 G
, C09D171/00
, G02B 1/10 A
, G02B 1/10 Z
Fターム (52件):
2K009AA00
, 2K009AA02
, 2K009AA15
, 2K009BB02
, 2K009BB12
, 2K009BB13
, 2K009BB14
, 2K009BB22
, 2K009BB24
, 2K009BB28
, 2K009CC02
, 2K009CC42
, 2K009DD02
, 2K009DD03
, 2K009DD04
, 2K009DD06
, 2K009EE05
, 4F100AG00A
, 4F100AH05
, 4F100AH06
, 4F100AK01A
, 4F100AT00A
, 4F100BA03
, 4F100BA04
, 4F100BA07
, 4F100BA10A
, 4F100BA10C
, 4F100BA10D
, 4F100CA30C
, 4F100EH46
, 4F100EH66
, 4F100GB90
, 4F100JL06
, 4F100JL06C
, 4F100JN01A
, 4F100JN10D
, 4F100JN30B
, 4H049VN01
, 4H049VP01
, 4H049VQ21
, 4H049VQ38
, 4H049VR20
, 4H049VR40
, 4H049VU21
, 4H049VU28
, 4H049VW02
, 4J038DF012
, 4J038EA011
, 4J038GA15
, 4J038JC32
, 4J038PB08
, 4J038PC08
引用特許:
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