特許

J-GLOBAL ID：200903095019459582

基板処理装置及び露光装置

発明者： 江渡 良
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 伊東 哲也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-227549
公開番号（公開出願番号）：特開2003-045947
出願日： 2001年07月27日
公開日（公表日）： 2003年02月14日
要約：

【要約】【課題】 スループットが、ロードロック室の真空引きに伴う基板の冷却により、低下するのを確実に防止する。【解決手段】 大気中に置かれた基板供給部10と、内部に基板処理部を有する特定雰囲気のチャンバ1と、基板供給部10とチャンバ1内の前記基板処理部との間で基板の搬送を行う為に雰囲気の置換を行うロードロック室3と、該ロードロック室3内で基板を保持する基板保持チャック6とを有し、該基板保持チャック6は基板を吸着保持する機構を持ち、該基板保持チャック6が温度制御されている。

請求項（抜粋）：

大気中に置かれた基板供給部と、内部に基板処理部を有する特定雰囲気のチャンバと、前記基板供給部と基板処理部の間で基板の搬送を行う為に雰囲気の置換を行うロードロック室と、該ロードロック室内で基板を保持する基板保持チャックとを有し、該基板保持チャックは基板を吸着保持する機構を持ち、該基板保持チャックが温度制御されていることを特徴とする基板処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/68 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027

FI (6件)：

H01L 21/68 R ,  H01L 21/68 A ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 502 J ,  H01L 21/30 516 E ,  H01L 21/30 516 F

Fターム (22件)：

5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031FA01 ,  5F031FA02 ,  5F031FA12 ,  5F031GA43 ,  5F031HA13 ,  5F031HA16 ,  5F031HA37 ,  5F031HA39 ,  5F031JA47 ,  5F031MA27 ,  5F031NA02 ,  5F031NA04 ,  5F031NA05 ,  5F031PA03 ,  5F031PA30 ,  5F046AA22 ,  5F046CC08 ,  5F046CC09 ,  5F046CD05 ,  5F046DA26

引用特許：

審査官引用 (2件)

• ロードロック式真空処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-037263   出願人：株式会社ニコン
• 真空排気装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-136357   出願人：ダイキン工業株式会社