特許
J-GLOBAL ID：200903029551400011

ロードロック式真空処理装置

発明者：
守田 憲司

守田 憲司 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-037263
公開番号（公開出願番号）：特開平10-233423
出願日： 1997年02月21日
公開日（公表日）： 1998年09月02日
要約：
【要約】【課題】 搬送室と処理室とを有するロードロック式真空処理装置では搬送室で真空排気する際に、搬送室内の雰囲気ガスが搬送室内圧力の減圧途上の断熱膨張のため冷却され、この冷却されたガスが試料を冷却し、試料温度を処理温度以下に低下させ、試料寸法を収縮させる。この試料が、試料を処理温度に保つよう調整された処理室に搬入されると、今度はあたためられ、試料が熱膨張するが、この安定に要する時間がロードロック式真空処理装置のスループットの低下を招いていた。【解決手段】 搬送室に、試料保持用のホルダー部に所定の温度に温度制御された液体または気体を循環させることによって試料ホルダーを加熱する第一の加熱機構、もしくは前記ホルダー部を加熱ランプからの輻射熱により加熱する第二の加熱機構を具備させることにより温度安定に要する時間を短縮し、その結果スループットの向上を図ることが出来た。た。
請求項（抜粋）：
搬送室と処理室とを具備し、前記処理室内で試料に対し所定の処理を行うロードロック式真空処理装置に於いて、前記搬送室が、試料の加熱のために、試料保持用のホルダー部に、所定の温度に温度制御された液体または気体を循環させることによって試料ホルダーを加熱する第1の加熱機構、もしくは前記ホルダー部を加熱ランプからの輻射熱により加熱する第2の加熱機構の何れか一方、或いは両方を具備したことを特徴とするロードロック式真空処理装置。
引用特許：
審査官引用 (8件)
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