ドライエッチング装置及びドライエッチング方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：中澤昭彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-249960
公開番号（公開出願番号）：特開平10-098022
出願日： 1996年09月20日
公開日（公表日）： 1998年04月14日
要約：

【要約】【課題】良好なエッチング均一性、エッチング形状及びエッチング再現性を得ることができ、かつパーティクルの発生を防止でき、量産性に優れたドライエッチング装置及びドライエッチング方法を提供する。【解決手段】所定間隔を隔てて対向して配置された電極3、4を備え、反応性ガスを導入して電極3、4間にプラズマを発生させ、被エッチング材1をドライエッチングする。プラズマにさらされる領域はAlを含まない材科で作られ、かつ、反応性ガスとしてCF4のガスだけを用いる。電極3、4間にプラズマを閉じこめるためのリング状のカバー6が設けられているので、被エッチング材1以外でプラズマにさらされる領域が極力少なくなり、パーティクル対策として有効である。

請求項（抜粋）：

所定間隔を隔てて対向して配置された電極を備え、反応性ガスを導入して前記電極間にプラズマを発生させ、被エッチング材をドライエッチングする装置であって、前記プラズマにさらされる領域は、Alを含まない材科で作られ、かつ、反応性ガスとしてCF4のガスだけを用いることを特徴とするドライエッチング装置。

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開昭59-172236
特開平3-241740
特開昭58-213427

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