走査露光方法及び装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大森聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-098755
公開番号（公開出願番号）：特開平10-289859
出願日： 1997年04月16日
公開日（公表日）： 1998年10月27日
要約：

【要約】【課題】露光対象の基板の走り面と投影光学系の像面とが平行でない場合であっても、その基板の表面を像面に高精度に合わせ込んで露光を行う。【解決手段】多点AFセンサ19A,19Bによって照野フィールド3内の検出点、及び照野フィールド3に対して走査方向に手前側の先読み領域内の検出点でウエハWの表面のフォーカス位置を検出する。更に、レーザ干渉計16XからウエハWが載置される試料台11の移動鏡15XにZ方向の間隔Dでレーザビーム17X,18Xを照射し、レーザビーム17X,18Xによって計測されるX座標の差分を間隔Dで除算して移動鏡15Xの回転角、ひいては試料台11の走り面14aの傾斜角を検出する。この傾斜角に基づいて先読みされたフォーカス位置を補正した値に基づいて、ウエハWの表面を投影光学系PLの像面に合わせ込んで走査露光を行う。

請求項（抜粋）：

マスクと基板とを同期して移動することにより、前記マスクのパターンの像を投影光学系を介して前記基板上に露光する走査露光方法において、前記基板上で前記投影光学系による露光領域に対して走査方向に手前側の先読み領域内で前記投影光学系の光軸方向の位置を検出すると共に、前記基板の走査方向への走り面の傾斜角を検出し、該検出される傾斜角に基づいて前記先読み領域内で検出される前記光軸方向の位置を補正し、該補正結果に基づいて前記基板の表面を前記投影光学系の像面に合わせ込むことを特徴とする走査露光方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/207

FI (3件)：

H01L 21/30 518 , G03F 7/207 H , H01L 21/30 526 A

引用特許：

審査官引用 (4件)

面位置設定装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-175197 出願人：株式会社ニコン
投影露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-163335 出願人：株式会社ニコン
露光方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-042426 出願人：株式会社ニコン

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