特許
J-GLOBAL ID:200903095155647902

リグニン系マトリックスを有する複合材料

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 特許業務法人アイテック国際特許事務所 ,  中村 敦子
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-235216
公開番号(公開出願番号):特開2004-075751
出願日: 2002年08月12日
公開日(公表日): 2004年03月11日
要約:
【課題】脱複合が容易なリグノフェノール誘導体複合材料。【解決手段】リグニン系マトリックスは(a)フェノール誘導体のフェノール性水酸基のオルト位炭素原子が、リグニンのアリールプロパンユニットのC1位の炭素原子に結合した第一の1,1-ビス(アリール)プロパンユニットを有するリグノフェノール誘導体、(b)リグノフェノール誘導体の水酸基保護処理、アルカリ処理、及び架橋性基導入反応から選択される1種の反応を行って得た二次誘導体、(c)リグノフェノール誘導体の水酸基保護処理、アルカリ処理、及び架橋性基導入反応から選択される2種以上の反応を行って得られた高次誘導体、(d)架橋性基導入反応により得られる二次誘導体が架橋されている二次誘導体の架橋体、(e)架橋性基導入反応を経て得られる高次誘導体の架橋体、の一種又は二種以上を有し、当該リグニン系ポリマーはアルカリ処理により脱複合させるのに十分な量を含有する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
リグニン系マトリックスを有する複合材料であって、 前記リグニン系マトリックスは、以下の(a)〜(e): (a)フェノール誘導体のフェノール性水酸基に対してオルト位の炭素原子が、リグニンのアリールプロパンユニットのC1位の炭素原子に結合した第一の1,1-ビス(アリール)プロパンユニットを有するリグノフェノール誘導体 (b)前記リグノフェノール誘導体に対して、水酸基保護処理、アルカリ処理、及び架橋性基導入反応から選択される1種の反応を行って得られ、かつ前記第一のユニットを有する二次誘導体 (c)前記リグノフェノール誘導体に対して、水酸基保護処理、アルカリ処理、及び架橋性基導入反応から選択される2種以上の反応を行って得られ、かつ前記第一のユニットを有する高次誘導体、 (d)前記二次誘導体のうち架橋性基導入反応により得られる二次誘導体が架橋されている二次誘導体の架橋体、及び (e)前記高次誘導体のうち、架橋性基導入反応を経て得られる高次誘導体が架橋されている高次誘導体の架橋体 からなる群から選択される1種あるいは2種以上のリグニン系ポリマーを有し、 前記複合材料のアルカリ処理により脱複合可能である、複合材料。
IPC (2件):
C08L97/00 ,  C08H5/02
FI (2件):
C08L97/00 ,  C08H5/02
Fターム (5件):
4J002AB01X ,  4J002AH00W ,  4J002DA066 ,  4J002DL006 ,  4J002FA046
引用特許:
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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