特許
J-GLOBAL ID:200903095159989824

光ファイバひずみ計測方法及びその装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 谷 義一 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-051068
公開番号(公開出願番号):特開2002-250676
出願日: 2001年02月26日
公開日(公表日): 2002年09月06日
要約:
【要約】【課題】 ひずみの計測に最適な入射パルス光の強度形状を提供するとともに、その入射パルス光を用いて計測されたブリルアン散乱光のパワースペクトルに対して、そのピークパワー周波数を精度良く決定すること。【解決手段】 センシング用光ファイバに沿った各計測点について、光周波数を変数として計測されたブリルアン散乱光のパワーをソートする工程において、ブリルアン後方散乱光のパワーは、三角形入射パルス光を用いて計測される(第1工程)。次に、光周波数とその光周波数において観測されたブリルアン後方散乱光のパワーとの関係を多項式で近似し、その係数を最小2乗法を用いて求め、それよりピークパワー周波数νBを算出する(第2工程)。次に、求めるべき全ての計測点のデータについて第2工程を繰り返す。
請求項(抜粋):
光ファイバに発生している長さ方向のひずみを求める光ファイバひずみ計測方法において、前記光ファイバに沿った各計測点について、光周波数を変数として計測されたブリルアン散乱光のパワーをソートする第1の工程と、前記光周波数とその光周波数において観測されたブリルアン後方散乱光のパワーとの関係を多項式で近似し、その係数を最小2乗法を用いて求めてピークパワー周波数を算出する第2の工程と、前記光ファイバに沿って求めるべき全ての計測点のデータについて前記第2工程を繰り返す工程とからなることを特徴とする光ファイバひずみ計測方法。
IPC (3件):
G01M 11/00 ,  G01B 11/16 ,  G01L 1/24
FI (3件):
G01M 11/00 U ,  G01B 11/16 Z ,  G01L 1/24 A
Fターム (12件):
2F065AA65 ,  2F065CC14 ,  2F065DD03 ,  2F065FF41 ,  2F065GG04 ,  2F065GG22 ,  2F065JJ01 ,  2F065LL02 ,  2F065NN08 ,  2F065QQ14 ,  2F065UU05 ,  2G086DD05
引用特許:
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る