特許
J-GLOBAL ID：200903095190200112

基板洗浄装置

発明者：
山口 嘉昭

山口 嘉昭 について

, 
新田 雄久

新田 雄久 について


出願人/特許権者：
ユーシーティー株式会社

ユーシーティー株式会社 について


代理人 (1件)： 國分 孝悦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-294141
公開番号（公開出願番号）：特開2001-118822
出願日： 1999年10月15日
公開日（公表日）： 2001年04月27日
要約：
【要約】【課題】 洗浄チャンバー内にクリーンルームエアーを導入する際に有機不純物等の不鈍物が入り込まないようにするとともに、基板を高速回転させているときでも洗浄チャンバー内のエアーを効率良く排気できるようにする。【解決手段】 少なくとも外気から遮蔽された洗浄チャンバー101を有し、洗浄チャンバー101内において基板109を洗浄するための洗浄装置であって、洗浄チャンバー101内の圧力を大気圧よりも小さくしている。これにより、洗浄チャンバー101内上部から下部へ向かう一定の方向へ気流を流すことができ、基板102を高速に回転させている時の排気を高効率で行うことができる。
請求項（抜粋）：
外気との間で吸排気が成されてガス流が形成された閉空間を有し、当該閉空間内において基板を洗浄するための洗浄装置であって、当該閉空間内の圧力を大気圧よりも小さくしたことを特徴とする基板洗浄装置。
IPC (4件)：
H01L 21/304 648 ,  H01L 21/304 643 ,  B08B 5/00 ,  F04B 9/00
FI (4件)：
H01L 21/304 648 L ,  H01L 21/304 643 A ,  B08B 5/00 Z ,  F04B 9/00
Fターム (16件)：
3B116AA02 ,  3B116AA03 ,  3B116AB34 ,  3B116AB42 ,  3B116BB24 ,  3B116BB32 ,  3B116BB62 ,  3B116BB85 ,  3B116CD11 ,  3H075AA01 ,  3H075CC25 ,  3H075CC28 ,  3H075CC34 ,  3H075CC35 ,  3H075CC36 ,  3H075DA28
引用特許：
審査官引用 (5件)
  • 回転式基板処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-323839   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
  • 基体の処理方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-076918   出願人：株式会社フロンテック
  • 局所密閉型清浄装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-163247   出願人：高砂熱学工業株式会社
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