特許
J-GLOBAL ID:200903095199562564

緑化用基盤及び植栽方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 重野 剛
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-354386
公開番号(公開出願番号):特開2002-153119
出願日: 2000年11月21日
公開日(公表日): 2002年05月28日
要約:
【要約】【課題】 土壌を使用することなく、任意の緑化対象に植物を生育させることができ、軽量で自己形状保持性、耐久性、取り扱い性、現場施工性等に優れた緑化用基盤と、この緑化用基盤を用いた植栽方法を提供する。【解決手段】 SiO2、Al2O3及びCaOを主成分とする原料を、700〜1200°Cの温度で焼成して発泡させることにより、連続気孔を形成してなるセラミック多孔体3よりなる緑化用基盤1。この緑化用基盤1の表層に直接植物4を生育させる植栽方法。
請求項(抜粋):
SiO2、Al2O3及びCaOを主成分とする原料を700〜1200°Cで焼成し発泡させて、連続気孔を形成したセラミック多孔体よりなる緑化用基盤。
IPC (4件):
A01G 1/00 301 ,  A01G 1/00 303 ,  A01G 7/00 602 ,  E02D 17/20 102
FI (4件):
A01G 1/00 301 C ,  A01G 1/00 303 A ,  A01G 7/00 602 C ,  E02D 17/20 102 B
Fターム (5件):
2B022AB02 ,  2B022AB04 ,  2B022BA01 ,  2B022BB02 ,  2D044DA15
引用特許:
審査官引用 (7件)
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