特許

J-GLOBAL ID：200903095212800895

粒度分布測定方法および装置

発明者： 大畑 学
出願人/特許権者： 日機装株式会社
代理人 (1件)： 円城寺 貞夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-315026
公開番号（公開出願番号）：特開2003-121338
出願日： 2001年10月12日
公開日（公表日）： 2003年04月23日
要約：

【要約】【課題】各種粉体試料の濃度に応じて測定セルにおける散乱場の光路長を変更して、散乱光の強度を適正範囲とし粒度分布等の測定精度を向上させるようにした粒度分布測定方法および装置を提供する。【解決手段】測定セル4中の試料が存在する散乱場40に測定光を照射し、試料粒子によって回折または散乱された散乱光を検出することにより、試料粒子の粒度分布を測定する粒度分布測定方法であって、前記散乱場に測定光を照射し、試料による散乱光または直接透過光の強度を検出する手順と、試料による散乱光の強度が適正範囲内となるように、前記散乱場における測定光の光路長Lを変更する手順とを有する。

請求項（抜粋）：

測定セル(4)中の試料が存在する散乱場(40)に測定光を照射し、試料粒子によって回折または散乱された散乱光を検出することにより、試料粒子の粒度分布を測定する粒度分布測定方法であって、前記散乱場(40)に測定光を照射し、試料による散乱光または直接透過光の強度を検出する手順と、試料による散乱光の強度が適正範囲内となるように、前記散乱場(40)における測定光の光路長(L)を変更する手順とを有する粒度分布測定方法。

IPC (4件)：

G01N 15/02 ,  G01N 21/03 ,  G01N 21/47 ,  G01N 21/49

FI (4件)：

G01N 15/02 A ,  G01N 21/03 Z ,  G01N 21/47 A ,  G01N 21/49 A

Fターム (24件)：

2G057AA01 ,  2G057AA02 ,  2G057AB04 ,  2G057AB06 ,  2G057AB07 ,  2G057AC06 ,  2G057BA01 ,  2G057BB06 ,  2G057DA15 ,  2G059AA05 ,  2G059BB06 ,  2G059BB09 ,  2G059CC19 ,  2G059EE01 ,  2G059EE02 ,  2G059GG01 ,  2G059JJ11 ,  2G059KK01 ,  2G059KK03 ,  2G059LL01 ,  2G059MM09 ,  2G059MM10 ,  2G059NN01 ,  2G059PP04

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 散乱式粒度分布測定方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-021725   出願人：株式会社堀場製作所
• 特開昭51-112388