特許
J-GLOBAL ID：200903095228160071
ナノスケール周期構造テンプレート
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-295443
公開番号（公開出願番号）：特開2004-134470
出願日： 2002年10月08日
公開日（公表日）： 2004年04月30日
要約：
【課題】従来技術で形成されるSKドットよりも微小なサイズの量子ドットを、均一なサイズで、かつ、電子遷移が可能となる間隔を持って形成する新しい量子ドット形成技術を提供する。【解決手段】周期的に配列する複数の単位胞(2)からなり、かつ、単位胞(2)が異なる化学反応性をそれぞれ有する少なくとも2種類以上のサブユニット(3、4)からなる基板表面(1)において、複数のサブユニット(3、4)の内の少なくとも1種類以上のサブユニット(4)のみを対象とした選択的化学反応により、選択的化学反応の対象となるサブユニット(4)における原子組成および原子構造を変化させる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
周期的に配列する複数の単位胞からなり、かつ、単位胞が異なる化学反応性をそれぞれ有する少なくとも2種類以上のサブユニットからなる基板表面において、複数のサブユニットの内の少なくとも1種類以上のサブユニットのみを対象とした選択的化学反応により、選択的化学反応の対象となるサブユニットにおける原子組成および原子構造を変化させることを特徴とするナノスケール周期構造テンプレート。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L29/06 601D
, B82B3/00
