特許

J-GLOBAL ID：200903095246887710

高分子化合物、該高分子化合物を含むレジスト組成物および溶解制御剤

発明者： 緒方 寿幸 ,  遠藤 浩太郎 ,  辻 裕光 ,  吉田 正昭 ,  羽田 英夫 ,  高須 亮一 ,  佐藤 充
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社
代理人 (1件)： 酒井 宏明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-349167
公開番号（公開出願番号）：特開2004-182796
出願日： 2002年11月29日
公開日（公表日）： 2004年07月02日
要約：

【課題】次世代の微細加工用のホトレジスト組成物に用いることのできる高い透明性を有する高分子化合物と、該高分子化合物をベースポリマーとして用いたレジスト組成物と、前記高分子化合物から構成した溶解制御剤とを提供する。【解決手段】耐エッチング性を確保するために側鎖部分に脂環式基を持たせるとともに、この脂環式基の環上の水素原子を高度にフッ素化することによって、波長157nmの光に対して吸収係数3.0μm-1以下の透明性を確保する。脂環式基として、好ましくは多環式とし、フッ素による高度な置換は、望ましくは環上の水素原子のすべての置換、すなわちパーフルオロ脂環式基とする。この高分子化合物をベースポリマーとしてレジスト組成物を構成し、さらには該高分子化合物から溶解制御剤を構成する。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

脂環式基を側鎖に有する重合性単位を有する高分子化合物であって、 前記脂環式基が高度にフッ素化され、波長157nmの光に対して吸収係数3.0μm-1以下の透明性を有していることを特徴とする高分子化合物。

IPC (4件)：

C08F20/22 ,  C08F16/24 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

FI (4件)：

C08F20/22 ,  C08F16/24 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R

Fターム (31件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025FA17 ,  4J100AC26Q ,  4J100AL03Q ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AR11Q ,  4J100BA03P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA11Q ,  4J100BA16Q ,  4J100BB07P ,  4J100BB18Q ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC12Q ,  4J100BC54Q ,  4J100CA04 ,  4J100DA65 ,  4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 反射防止膜およびそれを配置した表示装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-205094   出願人：富士写真フイルム株式会社
• フッ素含有重合体およびこれを用いた医療用具
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-208151   出願人：株式会社クラレ
• 高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-050829   出願人：信越化学工業株式会社, 松下電器産業株式会社, セントラル硝子株式会社
• パーフルオロアダマンチルアクリル酸エステル類及びその中間体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-324257   出願人：出光石油化学株式会社