荷電ビーム露光装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：佐藤一雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-237163
公開番号（公開出願番号）：特開2002-050567
出願日： 2000年08月04日
公開日（公表日）： 2002年02月15日
要約：

【要約】【課題】空間電荷効果の影響を受けることのない低収差・小型の荷電ビーム露光装置を提供する。【解決手段】電子銃11から低加速の荷電ビーム8を発生させてウェーハ14に照射し、所望のパターンを描画するアパーチャ方式の荷電ビーム露光装置10において、荷電ビーム8の光軸をZ方向とする場合に、X方向とY方向とでほぼ同一の縮小率で電子ビーム8を縮小するとともに、第2成形アパーチャ19とウェーハ14との間で電子ビーム8がクロスオーバを一切結ぶことなくウェーハ14上で結像するようにマルチポールレンズ場を形成する縮小投影光学系を備える。

請求項（抜粋）：

荷電ビームを発生させて基板に照射する荷電ビーム出射手段と、前記荷電ビームが均一な電子密度を有するようにそのビーム径を調整する照明光学系と、所望の描画パターンに対応した形状の絞り孔を有する開き角絞りと、前記荷電ビームが前記所望の断面形状を有するように前記荷電ビームを電界により偏向して前記開き角絞りの所望の絞り孔に入射させるとともに、前記絞り孔を通過した前記荷電ビームをその光軸上に振り戻す第1の偏向手段と、前記開き角絞りを通過した前記荷電ビームを電界により縮小させて前記基板上に結像させる縮小投影光学系と、前記開き角絞りを通過した前記荷電ビームを電界により偏向して前記基板上で走査させる第2の偏向手段と、を備え、前記荷電ビーム出射手段は、前記荷電ビームの照射を受けた前記基板の表面から発生する二次荷電粒子もしくは反射荷電粒子または前記二次荷電粒子および前記反射荷電粒子が近接する描画パターンの露光量に影響を及ぼす近接効果の影響が発生する量を下回る加速電圧で前記荷電ビームを出射させ、前記縮小投影光学系は、前記光軸をZ方向とする場合に、X方向とY方向とでほぼ同一の縮小率で前記電子ビームが縮小し、かつ、前記開き角絞りと前記基板との間でクロスオーバを結ぶことなく前記基板上で結像するようにマルチポールレンズ場を形成する、荷電ビーム露光装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 504 , G03F 7/20 521 , H01J 37/305

FI (5件)：

G03F 7/20 504 , G03F 7/20 521 , H01J 37/305 B , H01L 21/30 541 S , H01L 21/30 541 B

Fターム (19件)：

2H097AA03 , 2H097BA10 , 2H097BB10 , 2H097CA16 , 2H097EA01 , 2H097KA01 , 2H097KA29 , 2H097LA10 , 5C034BB02 , 5F056AA06 , 5F056BA08 , 5F056BB01 , 5F056CB02 , 5F056CB14 , 5F056CB30 , 5F056CB31 , 5F056CC14 , 5F056EA05 , 5F056EA06

引用特許：

出願人引用 (3件)

荷電粒子線光学系
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-023430 出願人：株式会社ニコン
特開昭61-118954
特開昭51-029091

審査官引用 (3件)

特開昭51-029091
荷電粒子線光学系
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-023430 出願人：株式会社ニコン
特開昭61-118954

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