特許
J-GLOBAL ID:200903095264225686
多層配線構造又は電極取り出し構造、電気回路装置、及びこれらの製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
逢坂 宏
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-255674
公開番号(公開出願番号):特開2003-069085
出願日: 2001年08月27日
公開日(公表日): 2003年03月07日
要約:
【要約】【課題】 Al層上にCu層を接続性よく形成することができる、多層配線構造又は電極取り出し構造、電気回路装置、及びこれらの製造方法を提供することにある。【解決手段】 アルミニウムの電極パッド56、57及び電極層77上に絶縁層79を形成する工程と、電極パッド56、57及び電極層77上において絶縁層79にビアホール70’を形成する工程と、ビアホール70’内に無電解Niメッキ層81を形成する工程と、無電解Niメッキ層81上にCu配線86を形成する工程とを有する、多層配線構造又は電極取り出し構造の製造方法。
請求項(抜粋):
アルミニウム系の第1導電層上に絶縁層を形成する工程と、前記第1導電層上において前記絶縁層に接続孔を形成する工程と、前記接続孔内にニッケル系の第2導電層を形成する工程と、前記第2導電層上に第3の導電層を形成する工程とを有する、多層配線構造又は電極取り出し構造の製造方法。
IPC (3件):
H01L 33/00
, G09F 9/33
, H01L 21/768
FI (3件):
H01L 33/00 N
, G09F 9/33 Z
, H01L 21/90 A
Fターム (39件):
5C094AA08
, 5C094AA43
, 5C094AA48
, 5C094BA12
, 5C094BA25
, 5C094CA19
, 5C094CA24
, 5C094DA13
, 5C094DA15
, 5C094DB01
, 5C094DB02
, 5C094EA10
, 5C094FA01
, 5C094FA02
, 5C094FB12
, 5C094FB15
, 5C094GB10
, 5F033HH09
, 5F033HH11
, 5F033HH12
, 5F033JJ07
, 5F033KK08
, 5F033PP15
, 5F033PP27
, 5F033PP28
, 5F033QQ37
, 5F033QQ48
, 5F033QQ54
, 5F033XX02
, 5F033XX18
, 5F041AA42
, 5F041AA44
, 5F041CA34
, 5F041CA40
, 5F041CA74
, 5F041CA77
, 5F041DA14
, 5F041DA20
, 5F041FF06
引用特許:
審査官引用 (5件)
-
特開昭63-015443
-
半導体装置の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-219182
出願人:住友金属工業株式会社
-
半導体装置及びその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-290060
出願人:日本電気株式会社
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