特許
J-GLOBAL ID:200903095264225686

多層配線構造又は電極取り出し構造、電気回路装置、及びこれらの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 逢坂 宏
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-255674
公開番号(公開出願番号):特開2003-069085
出願日: 2001年08月27日
公開日(公表日): 2003年03月07日
要約:
【要約】【課題】 Al層上にCu層を接続性よく形成することができる、多層配線構造又は電極取り出し構造、電気回路装置、及びこれらの製造方法を提供することにある。【解決手段】 アルミニウムの電極パッド56、57及び電極層77上に絶縁層79を形成する工程と、電極パッド56、57及び電極層77上において絶縁層79にビアホール70’を形成する工程と、ビアホール70’内に無電解Niメッキ層81を形成する工程と、無電解Niメッキ層81上にCu配線86を形成する工程とを有する、多層配線構造又は電極取り出し構造の製造方法。
請求項(抜粋):
アルミニウム系の第1導電層上に絶縁層を形成する工程と、前記第1導電層上において前記絶縁層に接続孔を形成する工程と、前記接続孔内にニッケル系の第2導電層を形成する工程と、前記第2導電層上に第3の導電層を形成する工程とを有する、多層配線構造又は電極取り出し構造の製造方法。
IPC (3件):
H01L 33/00 ,  G09F 9/33 ,  H01L 21/768
FI (3件):
H01L 33/00 N ,  G09F 9/33 Z ,  H01L 21/90 A
Fターム (39件):
5C094AA08 ,  5C094AA43 ,  5C094AA48 ,  5C094BA12 ,  5C094BA25 ,  5C094CA19 ,  5C094CA24 ,  5C094DA13 ,  5C094DA15 ,  5C094DB01 ,  5C094DB02 ,  5C094EA10 ,  5C094FA01 ,  5C094FA02 ,  5C094FB12 ,  5C094FB15 ,  5C094GB10 ,  5F033HH09 ,  5F033HH11 ,  5F033HH12 ,  5F033JJ07 ,  5F033KK08 ,  5F033PP15 ,  5F033PP27 ,  5F033PP28 ,  5F033QQ37 ,  5F033QQ48 ,  5F033QQ54 ,  5F033XX02 ,  5F033XX18 ,  5F041AA42 ,  5F041AA44 ,  5F041CA34 ,  5F041CA40 ,  5F041CA74 ,  5F041CA77 ,  5F041DA14 ,  5F041DA20 ,  5F041FF06
引用特許:
審査官引用 (5件)
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