特許
J-GLOBAL ID：200903095280535849

基板処理装置

発明者：
難波 敏光

難波 敏光 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-040847
公開番号（公開出願番号）：特開2000-243807
出願日： 1999年02月19日
公開日（公表日）： 2000年09月08日
要約：
【要約】【課題】基板を処理液に接触させる基板処理装置の基板保持するチャックに液体が大量に残留すると処理品質やスループットに悪影響を与える場合がある。【解決手段】そこで本発明では、チャック32、32aの下端部38、63に高低差を付け、また、チャック32、32aの断面形状が下に向かうに従って狭くなる下部角部37、62aを有し、上に向かうに従って狭くなる上部角部36、61aを有する。このため、上部角部36、61aを挟む面を伝って液が流下し、さらに、下端部38、63のうちの最低角部39、67から液が落下する。これにより、チャック32、32aに残留する液の量を少なくすることができる。
請求項（抜粋）：
基板に処理を施す処理液を貯留する処理槽と、基板を保持して処理槽内の処理液内に進入する基板保持部とを有し、前記基板保持部の下端部は該下端部が含まれる垂直面内において高低差を有する基板処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/68 ,  H01L 21/304 642 ,  H01L 21/306
FI (3件)：
H01L 21/68 A ,  H01L 21/304 642 B ,  H01L 21/306 J
Fターム (19件)：
5F031CA02 ,  5F031FA09 ,  5F031FA12 ,  5F031FA14 ,  5F031FA18 ,  5F031GA14 ,  5F031GA15 ,  5F031GA48 ,  5F031GA49 ,  5F031HA73 ,  5F031HA74 ,  5F031MA23 ,  5F043DD23 ,  5F043EE02 ,  5F043EE32 ,  5F043EE35 ,  5F043EE36 ,  5F043EE40 ,  5F043GG10
引用特許：
審査官引用 (3件)
  • 搬送具
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-002815   出願人：ソニー株式会社
  • 特開平4-305929
  • 洗浄処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-032514   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社

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