特許
J-GLOBAL ID:200903095286482330

還元鋳造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 綿貫 隆夫 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-252041
公開番号(公開出願番号):特開2003-053514
出願日: 2001年08月22日
公開日(公表日): 2003年02月26日
要約:
【要約】【課題】 エネルギー、労力を削減できてコストの低減化が図れ、さらには成形型の寿命を長くできる還元鋳造方法を提供する。【解決手段】 本発明に係る還元鋳造方法では、金属ガスと反応性ガスとを反応させて生成した還元性化合物を成形型12のキャビティ12b内に導入して、該還元性化合物により溶湯表面の酸化皮膜を還元して鋳物製品を鋳造する還元鋳造方法であって、前記キャビティ12b内に離型用塗型処理を行わず、かつ前記成形型12を冷却して、該成形型12のキャビティ12b内に溶湯を充填して鋳造を行うと共に、離型後、塗型焼結を含む塗型のためのメンテナンスを行わないことを特徴とする。
請求項(抜粋):
金属ガスと反応性ガスとを反応させて生成した還元性化合物を成形型のキャビティ内に導入して、該還元性化合物により溶湯表面の酸化皮膜を還元して鋳物製品を鋳造する還元鋳造方法であって、前記キャビティ内に離型用塗型処理を行わず、かつ前記成形型を冷却して、該成形型のキャビティ内に溶湯を充填して鋳造を行うと共に、離型後、塗型焼結を含む塗型のためのメンテナンスを行わないことを特徴とする還元鋳造方法。
IPC (6件):
B22D 27/18 ,  B22C 3/00 ,  B22D 21/04 ,  B22D 23/00 ,  B22D 27/04 ,  C22B 9/05
FI (6件):
B22D 27/18 Z ,  B22C 3/00 H ,  B22D 21/04 A ,  B22D 23/00 B ,  B22D 27/04 G ,  C22B 9/05
Fターム (1件):
4K001EA03
引用特許:
審査官引用 (5件)
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