特許
J-GLOBAL ID：200903095286726530
フィルタとこれを用いたクリーンルーム
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
柳田 良徳 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-352425
公開番号（公開出願番号）：特開2002-153715
出願日： 2000年11月20日
公開日（公表日）： 2002年05月28日
要約：
【要約】【課題】 半導体や液晶デバイスに付着するガス状・分子状汚染物質を低減させて、フィルタの寿命を延ばすことを可能にして、ランニングコストの低減を図ることができるフィルタとこれを用いたクリーンルームを提供する。【解決手段】 本発明によるクリーンルーム1は、クリーンルームに供給する前に設置する高性能フィルタとして、従来の高性能フィルタ35に半導体を加工して成る吸着体2を付属させて、吸着体2の間隙と高性能フィルタを通気させるように構成したフィルタ10を採用することで、クリーンルームへの給気からガス状・分子状になった各種の有機系ガス、酸・アルカリ性ガス、金属元素等の汚染物質を上記半導体の破砕片に付着させて除去している。
請求項（抜粋）：
半導体を加工して成る吸着体、該吸着体を高性能フィルタに付属させて形成し、該吸着体の間隙と高性能フィルタを通気させて成るフィルタ。
IPC (3件)：
B01D 39/14
, F24F 7/06
, B01J 20/02
B01D 39/14 B
, F24F 7/06 C
, B01J 20/02 A
3L058BE02
, 3L058BF00
, 3L058BG03
, 4D019AA01
, 4D019BC05
, 4G066AA03B
, 4G066AA80B
, 4G066BA02
, 4G066CA01
, 4G066DA03
