特許
J-GLOBAL ID:200903095303546312
膜形成剤
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
大島 正孝
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-009209
公開番号(公開出願番号):特開平9-194725
出願日: 1996年01月23日
公開日(公表日): 1997年07月29日
要約:
【要約】【課題】 低温焼成した場合でもイミド化率の高い薄膜を形成し、液晶配向膜形成剤として好適な膜形成剤を提供すること。【解決手段】 テトラカルボン酸二無水物と、分子内に2つのアミノ基およびこれらのアミノ基以外の塩基性窒素原子を有するジアミン化合物との反応生成物であるポリアミック酸を含有する膜形成剤。
請求項(抜粋):
下記一般式(1)【化1】(式(1)中、R1は、4価の有機基である)で示されるテトラカルボン酸二無水物と下記一般式(2)H2N-R2-NH2 (2)(式(2)中、R2は、塩基性窒素原子を有する2価の有機基である)で示されるジアミン化合物とを反応せしめることにより生成するポリアミック酸を含有することを特徴とする膜形成剤。
IPC (3件):
C08L 79/08 LRE
, C08J 5/18 CFG
, C09D179/08 PLW
FI (3件):
C08L 79/08 LRE
, C08J 5/18 CFG
, C09D179/08 PLW
引用特許:
審査官引用 (8件)
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絶縁膜の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-123372
出願人:日本合成ゴム株式会社
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特開昭59-232149
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特開昭59-133225
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