有機EL表示体の製造方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：森哲也 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-199988
公開番号（公開出願番号）：特開2002-015866
出願日： 2000年06月30日
公開日（公表日）： 2002年01月18日
要約：

【要約】【課題】微細構造物を利用してなる有機EL表示体を製造したい。【解決手段】図1(a)に示すように、透明基板10表面に画素形成位置に近接して複数の微細構造物20を嵌め込み、絶縁性の保護薄膜12で覆う。次いで、コンタクトホール13を形成した後、画素の形成位置に対応して複数の透明電極14を形成する。次いで、図1(b)に示すように、画素形成領域40以外を除いた部分に、絶縁性の厚膜であるバンク15を形成する。次いで、図1(c)に示すように、インクジェット方式によって液状の材料を画素形成領域14に塗布し、それを乾燥させるという作業を繰り返すことにより、画素形成領域14に、正孔注入層41及び有機EL層42からなる発光層43を形成する。そして、図1(d)に示すように、透明基板10の表面に、蒸着法或いはスパッタリング法によって、アルミニウム等の金属製の陰極層16を形成する。

請求項（抜粋）：

有機EL素子を画素として利用した表示体の製造方法であって、前記有機EL素子の駆動回路が作り込まれた複数の微細構造物を透明基板の表面に嵌め込みさらにその表面を絶縁性の保護薄膜で覆う微細構造物嵌め込み工程と、前記駆動回路に導通する透明電極を前記透明基板の前記保護薄膜上に形成する透明電極形成工程と、前記透明電極が形成された前記透明基板の表面のうち前記画素の形成領域以外に絶縁性の画素領域分離膜を形成する画素領域分離膜形成工程と、前記画素領域分離膜によって分離された前記画素の形成領域に有機EL層を含む発光層を形成する発光層形成工程と、前記発光層が形成された透明基板表面を陰極層で覆う陰極層形成工程と、を備えたことを特徴とする有機EL表示体の製造方法。

IPC (7件)：

H05B 33/10 , G09F 9/00 338 , H05B 33/02 , H05B 33/12 , H05B 33/14 , H05B 33/22 , H05B 33/26

FI (7件)：

H05B 33/10 , G09F 9/00 338 , H05B 33/02 , H05B 33/12 B , H05B 33/14 A , H05B 33/22 Z , H05B 33/26 Z

Fターム (17件)：

3K007AB18 , 3K007BA06 , 3K007CA01 , 3K007CA05 , 3K007CB01 , 3K007DA01 , 3K007DB03 , 3K007EB00 , 3K007FA01 , 3K007FA02 , 5G435AA17 , 5G435BB05 , 5G435CC09 , 5G435HH12 , 5G435HH13 , 5G435HH14 , 5G435KK05

引用特許：

審査官引用 (3件)

基板上に微細構造を組み付ける方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-166633 出願人：ザリージェンツオブザユニバーシティオブカリフォルニア
特開平3-252494
インクジェットヘッドの製造方法及びインクジェットプリンタ
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-071031 出願人：セイコーエプソン株式会社

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