基板処理装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小野由己男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-228855
公開番号（公開出願番号）：特開2000-058501
出願日： 1998年08月13日
公開日（公表日）： 2000年02月25日
要約：

【要約】【課題】処理チャンバーから他のチャンバーに処理液が漏れ出た場合に、その処理液が乾燥してパーティクルとなることを抑える。【解決手段】基板処理装置は、エッチング処理チャンバー3と、入口コンベアチャンバー2と、洗浄液供給パイプ21とを備えている。エッチング処理チャンバー3は、基板に薬液を供給して基板に処理を施すチャンバーであって、基板が通過する基板搬入口3aを有している。入口コンベアチャンバー2は、エッチング処理チャンバー3に隣接して設けられエッチング処理チャンバー3へ基板を搬出するチャンバーであって、基板搬入口3aと連通する基板搬出口3bを有している。洗浄液供給パイプ21は、入口コンベアチャンバー2の内壁に純水を供給する。

請求項（抜粋）：

基板が通過する第1開口を有し、基板に処理液を供給して処理を施す第1チャンバーと、前記第1チャンバーと隣接し、前記第1開口と連通する第2開口を有し、前記第1チャンバーへ基板を搬出する第2チャンバーと、第2チャンバーの内壁に洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、を備えた基板処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/306 , H01L 21/304 651

FI (2件)：

H01L 21/306 J , H01L 21/304 651 G

Fターム (6件)：

5F043BB27 , 5F043DD13 , 5F043DD23 , 5F043DD24 , 5F043EE28 , 5F043EE36

引用特許：

審査官引用 (1件)

Crエッチング装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-233566 出願人：株式会社日立製作所

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