特許
J-GLOBAL ID：200903095521368647
フォトレジスト組成物用容器
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
酒井 宏明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-078150
公開番号（公開出願番号）：特開2005-263264
出願日： 2004年03月18日
公開日（公表日）： 2005年09月29日
要約：
【課題】フォトレジスト組成物、特にキノンジアジド系および/またはベンゾフェノン系の感光成分を含むフォトレジスト組成物に対して、容器成分の溶出および容器成分からの微粒子の発生が極めて少なく、経時品質安定性の高い低汚染特性を有するフォトレジスト組成物用容器を提供する。【解決手段】フォトレジスト組成物の貯蔵6ヶ月経過後の前記フォトレジスト組成物中に存在する容器の形成材料であるプラスチック由来の粒径0.3μmを超える微粒子の平均個数を300.0個/mL以下とする。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
フォトレジスト組成物を貯蔵するプラスチック製のフォトレジスト用容器であって、
前記フォトレジスト組成物の貯蔵6ヶ月経過後の前記フォトレジスト組成物中に存在する前記プラスチック由来の粒径0.3μmを超える微粒子の平均個数を300.0個/mL以下とする低汚染特性を有することを特徴とするフォトレジスト組成物用容器。
IPC (5件)：
B65D85/84
, G03C3/00
, G03F7/004
, G03F7/022
, G03F7/26
B65D85/84
, G03C3/00 301
, G03F7/004 501
, G03F7/022
, G03F7/26
2H025AA11
, 2H025AC01
, 2H025AD03
, 2H025BE01
, 2H025CC03
, 2H096AA27
, 2H096BA10
, 2H096EA02
, 2H096LA22
, 3E035AA03
, 3E035AA20
, 3E035BA04
, 3E035BC02
, 3E035BD10
出願人引用 (3件)
審査官引用 (5件)
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