測定装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：柳田征史 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-088830
公開番号（公開出願番号）：特開2002-357544
出願日： 2002年03月27日
公開日（公表日）： 2002年12月13日
要約：

【要約】【課題】光ビームを大きな断面積を有する平行光束として測定面に入射させ、該測定面からの反射光の断面の光強度分布を検出する測定装置において、光強度分布を精度よく検出する。【解決手段】光ビームLを十分な断面積を有する平行光束とし、誘電体プリズム11上の金属膜の界面11aで全反射条件が得られる角度で入射させ、上記界面11aにおいて全反射した光ビームLの光強度分布を検出するセンサーにおいて、界面11aで反射された光ビームLの光路中に配したスクリーンにより断面の光強度分布を可視像化し一旦拡散させた後に、結像光学系7によりCCDエリアセンサー8上に結像させる。

請求項（抜粋）：

光ビームを発生させる光源と、該光ビームに対して透明な誘電体ブロック、この誘電体ブロックの一面に形成された薄膜層、およびこの薄膜層上に試料を保持する試料保持機構を備えてなる測定ユニットと、前記光ビームを相当の大きさの断面積をもった平行光束とし、該平行光束を、前記誘電体ブロックを通して該誘電体ブロックと前記薄膜層との界面で全反射条件が得られる角度で入射させる入射光学系と、前記界面で全反射した平行光束の光路中に配され、該平行光束の断面における光強度分布を可視像に変換するスクリーンと、該スクリーン上の可視像が結像される二次元センサと、前記スクリーン上の可視像を前記二次元センサ上に結像する結像光学系とを備えてなることを特徴とする測定装置。

IPC (4件)：

G01N 21/27 , G01N 21/01 , G01N 21/03 , G01N 21/05

FI (4件)：

G01N 21/27 C , G01N 21/01 B , G01N 21/03 Z , G01N 21/05

Fターム (24件)：

2G057AA01 , 2G057AA05 , 2G057AC01 , 2G057BA05 , 2G057BB01 , 2G057DA08 , 2G057DB05 , 2G057DB10 , 2G057DC07 , 2G059AA02 , 2G059DD13 , 2G059EE01 , 2G059EE02 , 2G059EE09 , 2G059GG01 , 2G059GG04 , 2G059JJ11 , 2G059JJ12 , 2G059JJ13 , 2G059JJ22 , 2G059JJ30 , 2G059KK04 , 2G059MM01 , 2G059PP04

引用特許：

審査官引用 (6件)

特開平3-115834
光学検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-010023 出願人：日本開発銀行
特開平4-069548

全件表示

前のページに戻る