形状解析システム

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小川勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-040367
公開番号（公開出願番号）：特開平10-242017
出願日： 1997年02月25日
公開日（公表日）： 1998年09月11日
要約：

【要約】【課題】計算精度を損なうことなく短時間で成膜(若しくはエッチング)形状を予測でき、試行錯誤をはじめとする基礎実験作業量軽減に役立つ形状解析システムを提供する。【解決手段】物質表面形状入力手段11により入力された物質表面形状をセグメント分割手段21により微小セグメントに分割し、上記微小セグメントに対し、物質形状更新要素情報入力手段12により入力された物質形状更新要素情報より表面形状更新量を計算し、表面形状各微小セグメント間につき更新量の相対変化量を更新量相対比較手段23により比較し、変化量の大小に応じてセグメント数増減手段24によりセグメント総数の増減を行う。

請求項（抜粋）：

物質表面形状を入力する手段、上記表面形状をセグメント分割する手段、上記セグメント分割された物質表面の形状更新量を算出する形状更新量解析手段、上記形状更新量解析手段により算出された形状更新量に基づき更新表面形状を表示する手段より構成される形状解析システムにおいて、上記形状更新量解析手段により算出された上記セグメント形状更新量のセグメント間での相対変化量を比較する手段、上記相対変化量に応じ分割セグメントの統合、若しくは再分割する手段を備えたことを特徴とする形状解析システム。

IPC (8件)：

H01L 21/02 , C23C 16/52 , C23F 4/00 , G01B 11/24 , G06F 17/50 , G06T 7/00 , H01L 21/205 , H01L 21/302

FI (9件)：

H01L 21/02 Z , C23C 16/52 , C23F 4/00 Z , G01B 11/24 K , H01L 21/205 , G06F 15/60 612 G , G06F 15/60 666 S , G06F 15/62 400 , H01L 21/302 Z

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