研究者
J-GLOBAL ID：200901007658434422   更新日: 2022年09月16日

丸泉 琢也

マルイズミ タクヤ | Maruizumi Takuya
所属機関・部署：
東京都市大学 東京都市大学 副学長

東京都市大学 東京都市大学 副学長 について


職名： 副学長
その他の所属（所属・部署名・職名） (1件)：
  • Tokyo City University  Graduate School Research Division in Engineering, Electrical and Electronic Engineering, Tokyo City University, Graduate School of Engineering, Electrical and Electronic Engineering 
研究分野 (5件)： 電子デバイス、電子機器 ,  電気電子材料工学 ,  薄膜、表面界面物性 ,  結晶工学 ,  応用物性
研究キーワード (4件)： デバイスシミュレーション ,  材料シミュレーション ,  Device Simulation ,  Materials Simulation
競争的資金等の研究課題 (2件)：
  • 2004 - シリコン半導体材料・デバイス シミュレーション
  • 2004 - Simulations research for semiconductor materials and devices
論文 (38件)：
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MISC (91件)：
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特許 (2件)：
  • 「物質の遠隔検知装置およびその方法」
  • 「特定物質の検知方法およびその装置」
書籍 (2件)：
  • 量子ドットーエレクトロニクス最前線
    NTS 2011 ISBN:9784860433765
  • Quantum dots: its cutting edge for electronics
    NTS 2011 ISBN:9784860433765
講演・口頭発表等 (19件)：
  • Ge量子ドットを有する1次元フォトニック結晶微小共振器による1.3μm帯での単一ピーク発光
    (第71回応用物理学会学術講演会 2010)
  • フォトニック結晶微小共振器を用いたSi系発光デバイスのエレクトロルミネッセンス
    (第71回応用物理学会学術講演会 2010)
  • HfO2中への元素添加の第一原理計算
    (第71回応用物理学会学術講演会 2010)
  • Si表面近傍におけるボロンクラスタの安定位置とそのSTM像(3)
    (第71回応用物理学術講演会 2010)
  • First principle calculation of elemental addition in HfO2
    (The 71st Fall Meeting, JSAP 2010)
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学歴 (4件)：
  • - 1980 東京大学 工学系研究科 工業化学
  • - 1980 東京大学
  • - 1975 東京大学 工学部 工業化学
  • - 1975 東京大学
学位 (1件)：
  • 工学博士 (東京大学)
経歴 (10件)：
  • 2010 - - Professor, Tokyo City University (Due to change of the name)
  • 2004 - 2009 武蔵工業大学教授
  • 2004 - 2009 Professor, Musashi Institute of Technology
  • 2009 - - 東京都市大学教授(校名変更に伴い)
  • 1999 - 2004 日立製作所基礎研究所 主任研究員
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委員歴 (20件)：
  • 2013 - 2014 応用物理学会 常務理事
  • 2013 - 2014 The Japanese Society of Applied Physics Director
  • 2014 - 応用物理学会 諮問委員
  • 2014 - Japanese Society of Applied Physics Member of the Advisory commission
  • 2012 - 2013 応用物理学会 理事
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所属学会 (18件)：
ISCSI ( International Symposium on Control of Semiconductor Interfaces) ,  IWDTF(International Workshop onn Gate Insulator for Fture ULSI Devices) ,  日本化学会 ,  応用物理学会 (JSAP) ,  IEEE(The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc.) ,  IWGI (International Workshop on Gate Insulator) ,  ECS ( The Electrochemical Society) ,  応用物理学会 ,  The Chemical Society of Japan ,  The Japan Society of Applied Physics ,  The Japanese Society of Applied Physics ,  ISCSI ( International Symposium on Control of Semiconductor Interfaces) ,  The Japan Society of Applied Physics(JSAP) ,  ECS ( The Electrochemical Society) ,  IWGI (International Workshop on Gate Insulator) ,  IEEE(The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc.) ,  IWDTF(International Workshop onn Gate Insulator for Fture ULSI Devices) ,  Japanese Society of Applied Physics
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