特許
J-GLOBAL ID：200903095545618326
集束イオンビーム装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-093825
公開番号（公開出願番号）：特開平9-283039
出願日： 1996年04月16日
公開日（公表日）： 1997年10月31日
要約：
【要約】【課題】液体金属イオン源の引出し電極下の絞りにイオンが照射されて生じる二次電子がイオン源のエミッタに入射して、放出イオン電流の測定誤差,液体金属イオン源の不安定化が発生するのを防止する。【解決手段】引出し電極形状を二次電子が衝突しやすい円錐面状にする、または、二次電子を反発するような電位を印加して電子が電極孔を通過してエミッタに入射するのを防止する。
請求項（抜粋）：
引出し電極,エミッタよりなる液体金属イオン源、及び、その下流に配置された絞りを有する集束イオンビーム装置において、上記液体金属イオン源の引出し電極の内面形状が、上記液体金属イオン源のエミッタ先端を概ね頂点とする、開き角10度以上,70度以下の円錐面であることを特徴とする集束イオンビーム装置。
IPC (5件)：
H01J 27/26
, G03F 1/00
, H01J 37/08
, H01L 21/027
, H01L 21/302
H01J 27/26
, G03F 1/00 Y
, H01J 37/08
, H01L 21/30 502 V
, H01L 21/302 Z
