特許
J-GLOBAL ID:200903095559458240

磁場解析方法および装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 奥田 誠司
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-291990
公開番号(公開出願番号):特開2004-127056
出願日: 2002年10月04日
公開日(公表日): 2004年04月22日
要約:
【課題】永久磁石について減磁が生じるか否かだけではなく、減磁後における磁束密度分布などの算出することができる磁場解析方法および装置を提供する。【解決手段】本発明の磁場解析方法は、第1の温度T1における永久磁石のB-Hカーブデータに基づいて、永久磁石内の複数の部位におけるパーミアンス係数および/またはパーミアンス係数に依存する数値を算出する。次に、第1の温度T1とは異なる第2の温度T2における前記永久磁石のB-Hカーブデータと前記パーミアンス係数または前記数値とに基づいて、第2の温度T2で使用した後の永久磁石における修正B-Hカーブデータを、複数の部位の各々について算出する。【選択図】 図5
請求項(抜粋):
第1の温度T1における永久磁石のB-Hカーブデータに基づいて、前記永久磁石内の複数の部位におけるパーミアンス係数および/または前記パーミアンス係数に依存する数値を算出するステップと、 前記第1の温度T1とは異なる第2の温度T2における前記永久磁石のB-Hカーブデータと前記パーミアンス係数または前記数値とに基づいて、前記第2の温度T2で使用した後の永久磁石における修正B-Hカーブデータを、前記複数の部位の各々について算出するステップと、 を含む磁場解析方法。
IPC (2件):
G06F17/50 ,  G01R33/12
FI (3件):
G06F17/50 612G ,  G06F17/50 680Z ,  G01R33/12 M
Fターム (6件):
2G017BA15 ,  2G017CA03 ,  2G017CB18 ,  2G017CC06 ,  5B046AA07 ,  5B046JA10
引用特許:
出願人引用 (1件) 審査官引用 (1件)
引用文献:
出願人引用 (1件) 審査官引用 (1件)

前のページに戻る