特許
J-GLOBAL ID：200903095580288304

組織分析のための光学的な方法及びシステム

発明者：
ティアニー ギレルモ ジェイ.

ティアニー ギレルモ ジェイ. について

, 
ブーマ ブレット イー.

ブーマ ブレット イー. について


出願人/特許権者：
ザ ジェネラル ホスピタル コーポレーション

ザ ジェネラル ホスピタル コーポレーション について


代理人 (2件)： 清水 初志 ,  橋本 一憲
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-538830
公開番号（公開出願番号）：特表2004-512538
出願日： 2001年10月30日
公開日（公表日）： 2004年04月22日
要約：
本発明は、ブラウン運動等の顕微鏡的運動のスペックルパターンに基づいて、組織等の試料を光学的に分析するための方法及びシステムに関する。
請求項（抜粋）：
組織を分析する方法であって、以下の段階を含む方法: コヒーレント光または部分的にコヒーレントな光で組織を照らす段階; 一連のスペックルパターンを形成するために、組織から反射された光を検出器で受光する段階;及び 組織内の対象物の顕微鏡的運動によりもたらされる変化を測定するのに充分な時間間隔で、スペックルパターンにおける変化を解析する段階。
IPC (2件)：
G01N21/17 ,  G01N21/47
FI (3件)：
G01N21/17 A ,  G01N21/17 630 ,  G01N21/47 A
Fターム (26件)：
2G059AA05 ,  2G059AA06 ,  2G059BB13 ,  2G059BB14 ,  2G059CC16 ,  2G059EE02 ,  2G059EE09 ,  2G059EE11 ,  2G059FF01 ,  2G059FF03 ,  2G059FF04 ,  2G059GG01 ,  2G059GG02 ,  2G059JJ01 ,  2G059JJ02 ,  2G059JJ11 ,  2G059JJ13 ,  2G059JJ17 ,  2G059JJ19 ,  2G059JJ23 ,  2G059KK01 ,  2G059KK04 ,  2G059MM01 ,  2G059MM02 ,  2G059MM05 ,  2G059MM09
引用特許：
審査官引用 (4件)
  • 特開平4-135551
  • 特開平4-135550
  • 共焦点表面測定のための装置
    公報種別：公表公報   出願番号：特願平10-516145   出願人：ライカマイクロシステムスハイデルベルクゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング
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引用文献：
審査官引用 (2件)

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