特許
J-GLOBAL ID:200903095684507440
物質の酸化方法およびその酸化装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
永井 隆
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-146361
公開番号(公開出願番号):特開2006-008499
出願日: 2005年05月19日
公開日(公表日): 2006年01月12日
要約:
【課題】 環境負荷が少なく、取り扱いが容易であり、かつ比較的低コストにて物質を酸化することができる、亜酸化窒素(N2O)を含む液中における物質の酸化方法および酸化装置を提供する。【解決手段】 亜酸化窒素(N2O)を含む溶液と物質を接触させ、該溶液に対して紫外光を照射することによって前記物質の酸化を行う物質の酸化方法であって、紫外光の照射時間により物質の酸化時間を制御することを特徴とする物質の酸化方法。
請求項(抜粋):
亜酸化窒素(N2O)を含む溶液と物質を接触させ、該溶液に対して紫外光を照射することによって前記物質の酸化を行う物質の酸化方法であって、紫外光の照射時間により物質の酸化時間を制御することを特徴とする物質の酸化方法。
IPC (5件):
C01B 13/14
, C01B 13/32
, C01B 33/12
, C01F 7/02
, H01L 21/316
FI (5件):
C01B13/14 Z
, C01B13/32
, C01B33/12 C
, C01F7/02 A
, H01L21/316 U
Fターム (36件):
4G042DA01
, 4G042DB08
, 4G042DB15
, 4G042DB24
, 4G042DB35
, 4G042DC03
, 4G042DD02
, 4G042DE02
, 4G042DE12
, 4G072AA25
, 4G072BB09
, 4G072GG03
, 4G072HH01
, 4G072JJ26
, 4G072LL06
, 4G072NN30
, 4G072QQ06
, 4G072RR03
, 4G072RR12
, 4G072RR30
, 4G072UU02
, 4G076AA02
, 4G076AB18
, 4G076BA25
, 4G076BC10
, 4G076BF10
, 4G076BG05
, 4G076BH01
, 4G076CA10
, 5F058BA20
, 5F058BC02
, 5F058BD04
, 5F058BE03
, 5F058BF69
, 5F058BF78
, 5F058BJ01
引用特許:
出願人引用 (6件)
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特許第3210370号 公報
-
特公平4-36456号 公報
-
半導体装置およびその作製方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-090244
出願人:株式会社半導体エネルギー研究所
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