特許

J-GLOBAL ID：200903095715509683

画像形成装置

発明者： 田 素琳
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 岸田 正行 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-077487
公開番号（公開出願番号）：特開平11-272048
出願日： 1998年03月25日
公開日（公表日）： 1999年10月08日
要約：

【要約】【課題】 画像形成装置を長時間休止状態に放置した後に画像形成を再開する場合に、環境湿度の影響を受けた現像剤により、カブリ現象や濃度低下を伴う現像が行われ、形成画像の質が低下するのを防止すること。【解決手段】 像担持体に現像剤を担持搬送する現像剤担持体と、現像剤担持体にDC成分にAC成分を重畳した現像バイアス電圧を印加するバイアス印加手段とを具備する現像手段と、前回の画像形成から次回の画像形成時までの休止時間を検出する休止時間検出手段と、湿度環境を検出する湿度検出手段とを有する画像形成装置において、前記検出手段により検出される休止時間が設定値以上の場合に(S1)、湿度環境が設定値以上のときは、現像バイアスの振幅を基準値より増大し(S4)、湿度環境が設定値未満のときは、現像バイアスの周波数を基準値より増大する(S5)。

請求項（抜粋）：

像担持体に現像剤を担持搬送する現像剤担持体と、該現像剤担持体にDC成分にAC成分を重畳した現像バイアス電圧を印加する現像バイアス印加手段とを具備する現像手段と、前回の画像形成から次回の画像形成時までの休止時間を検出する休止時間検出手段と、湿度環境を検出する湿度検出手段とを有する画像形成装置において、前記休止時間検出手段及び湿度検出手段の両者の検出結果に応じて、前記現像バイアスのAC成分の周波数及び/又は振幅を切り換えるバイアス切り換え手段を有することを特徴とする画像形成装置。

IPC (3件)：

G03G 15/06 101 ,  G03G 15/00 303 ,  G03G 15/08 115

FI (3件)：

G03G 15/06 101 ,  G03G 15/00 303 ,  G03G 15/08 115

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 特開平4-366862
  
• 特開昭59-116768
  
• 画像形成装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-357512   出願人：キヤノン株式会社
• 特開平4-366862
  
• 特開昭59-116768