特許

J-GLOBAL ID：200903095821864484

水性レジスト組成物

発明者： 石垣 聡 ,  木村 和弥 ,  松木 邦夫
出願人/特許権者： 昭和電工株式会社
代理人 (5件)： 青木 篤 ,  石田 敬 ,  古賀 哲次 ,  中村 和広 ,  西山 雅也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-332918
公開番号（公開出願番号）：特開2005-173574
出願日： 2004年11月17日
公開日（公表日）： 2005年06月30日
要約：

【課題】 プリント基板などの製造に用いる新規レジスト組成物の提供。【解決手段】 本発明に係る水性レジスト組成物は、(A)水またはアルカリ性水溶液に可溶な樹脂、(B)セルロース誘導体、(C)水、および(D)水酸基含有有機溶剤を含む水性レジスト組成物であって、当該レジスト組成物中の、前記(B)セルロース誘導体の含有量が、0.001〜1.0質量%、前記(C)水の含有量が、25〜65質量%、そして前記(D)水酸基含有有機溶剤の含有量が、15〜50質量%の範囲であることを特徴とする。本発明により、極めて少量のセルロース誘導体を使用した場合でも、水および特定溶剤を特定量使用することで、レジストの優れた密着性、良好なタックを維持したまま、表面が平滑で、高精度の配列パターンの作製が可能となる。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

(A)水またはアルカリ性水溶液に可溶な樹脂、(B)セルロース誘導体、(C)水、 および(D)水酸基含有有機溶剤を含む水性レジスト組成物であって、当該レジスト組成 物中の、前記(B)セルロース誘導体の含有量が、0.001〜1.0質量%、前記(C )水の含有量が、25〜65質量%、そして前記(D)水酸基含有有機溶剤の含有量が、 15〜50質量%の範囲であることを特徴とする水性レジスト組成物。

IPC (3件)：

G03F7/033 ,  G03F7/004 ,  G03F7/16

FI (3件)：

G03F7/033 ,  G03F7/004 501 ,  G03F7/16

Fターム (17件)：

2H025AB15 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025BC32 ,  2H025BC42 ,  2H025CA01 ,  2H025CA27 ,  2H025CA31 ,  2H025CB13 ,  2H025CB14 ,  2H025CB43 ,  2H025CC03 ,  2H025CC07 ,  2H025CC20 ,  2H025EA04 ,  2H025FA03 ,  2H025FA17

引用特許：

出願人引用 (5件)

• 水系感光性樹脂組成物及びそれを用いたプリント回路板の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-172247   出願人：ダブリユー・アール・グレース・アンド・カンパニー-コーン
• 感光性樹脂組成物、感光性樹脂塗膜の製造方法およびプリント配線板の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-351309   出願人：昭和電工株式会社
• 特開昭55-045725号公報
  
• 光重合性樹脂組成物及び積層体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-354035   出願人：旭化成工業株式会社
• 感光性組成物、感光性塗布物および微細パターン構造体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-096589   出願人：富士フイルムオーリン株式会社