特許

J-GLOBAL ID：200903095872949573

処理液吐出ノズルおよび基板処理装置

発明者： 吉井 弘至 ,  杉本 憲司 ,  奥田 誠一郎
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 福島 祥人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-257063
公開番号（公開出願番号）：特開平10-099755
出願日： 1996年09月27日
公開日（公表日）： 1998年04月21日
要約：

【要約】【課題】 配管内の流速分布に偏りが発生した場合でも吐出分布に偏りが生じず、かつ吐出を急激に停止させた場合でも再吐出時に吐出孔の目詰まりが発生しない処理液吐出ノズルおよびそれを備えた基板処理装置を提供することである。【解決手段】 現像ノズル10に、内径が漸次減少する径変化部A、流速エネルギーを圧力エネルギーに変換するバッファ領域B、処理液の流動方向を変換する流動ベクトル変換部C、および細管状の複数の吐出孔18を設ける。径変化部Aにおいて流速の偏りの幅を徐々に小さくするとともに、バッファ領域Bへの流入圧力を高める。バッファ領域Bにおいて流速の偏りを均一な圧力分散に変換する。流動ベクトル変換部Cにおいて流速の偏りをさらに除去する。複数の吐出孔18の断面積の合計を流入口の断面積よりも小さく設定することにより、球形の気泡が現像ノズル10内の現像液中に混入することを防止する。

請求項（抜粋）：

ノズル本体部に処理液の流入口および複数の吐出孔を設け、前記流入口と前記複数の吐出孔との間を流路で連通させ、前記流路に速度エネルギーを圧力エネルギーに変換するバッファ領域を設けたことを特徴とする処理液吐出ノズル。

IPC (5件)：

B05C 5/00 ,  G03F 7/16 501 ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/304 341

FI (6件)：

B05C 5/00 Z ,  G03F 7/16 501 ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/304 341 N ,  H01L 21/30 564 C ,  H01L 21/30 569 C

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 薬液ノズルおよび薬液処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-317281   出願人：シグマメルテック株式会社