特許
J-GLOBAL ID：200903095960310841

多孔質フィルム及び多孔質フィルム製造方法に関するものである。

発明者：
横山 英明

横山 英明 について

, 
リ レイ

リ レイ について


出願人/特許権者：
独立行政法人産業技術総合研究所

独立行政法人産業技術総合研究所 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-106257
公開番号（公開出願番号）：特開2005-290170
出願日： 2004年03月31日
公開日（公表日）： 2005年10月20日
要約：
【課題】直径5nm以上80nm以下の孔が多孔で単層で構成され、厚さが100nm以下で高分子化合物により形成されている新規なフィルムシート及びその製造方法の提供。【解決手段】超臨界二酸化炭素に溶解性をする1つのブロック成分Aと、超臨界二酸化炭素に溶解性を有しない1つのブロック成分Bからなり、厚さが100nm以下である高分子化合物フィルムシートと超臨界の二酸化炭素を接触させて、前記高分子化合物のフィルムシートを、ブロック成分Bを構成するポリマー鎖の二酸化炭素含侵した状態でガラス転移温度よりも低温に冷却した後、前記高分子化合物のフィルムシートに含浸されている二酸化炭素を気化させることにより得られる直径5nm以上80nm以下の孔が多孔で単層で構成され、厚さが100nm以下で高分子化合物により形成されているフィルムシート及びその製造法。【選択図】なし。
請求項（抜粋）：
直径5nm以上80nm以下の孔が多孔で単層で構成され、厚さが100nm以下で高分子化合物により形成されていることを特徴とするフィルムシート。
IPC (5件)：
C08J9/12 ,  B01D71/32 ,  B01D71/40 ,  B01D71/70 ,  B01D71/80
FI (5件)：
C08J9/12 ,  B01D71/32 ,  B01D71/40 ,  B01D71/70 500 ,  B01D71/80
Fターム (22件)：
4D006GA41 ,  4D006MA22 ,  4D006MA31 ,  4D006MC24X ,  4D006MC37X ,  4D006MC79X ,  4D006MC88 ,  4D006NA10 ,  4D006NA54 ,  4D006NA61 ,  4D006PA05 ,  4D006PB17 ,  4D006PC41 ,  4F074AA33B ,  4F074AA48 ,  4F074AB01 ,  4F074BA32 ,  4F074CA29 ,  4F074CC05X ,  4F074CC10X ,  4F074DA23 ,  4F074DA43
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (1件)

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