真空成膜システム

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：角田嘉宏 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-141526
公開番号（公開出願番号）：特開2000-328228
出願日： 1999年05月21日
公開日（公表日）： 2000年11月28日
要約：

【要約】【課題】ワークの洗浄等の前処理から真空成膜装置によって成膜を完了するまでの工程を、一連の工程として処理することができる真空成膜システムを提供することを目的とする。【解決手段】真空成膜システムを洗浄手段2と活性化手段3と真空成膜装置4とによって構成する。ワーク7は、真空成膜装置4によって薄膜が成膜されるが、前処理として、洗浄手段2による洗浄と、活性化手段3による活性化処理とが行われる。洗浄手段2は、密閉空間である洗浄容器2a内でワーク7を乾燥状態で洗浄することができる。活性化手段3は、密閉空間である活性化容器3a内でワーク7を活性化することができる。そして、洗浄手段2によって洗浄されたワーク7の活性化手段3への設置は、ワーク7を乾燥状態に保つことのできる11内の密閉空間を介して行われる。また、活性化手段2によって活性化されたワーク7の真空成膜装置4への設置は、真空雰囲気とされ得る12内の密閉空間を介して行われる。

請求項（抜粋）：

密閉空間においてワークを乾燥状態で洗浄することができる洗浄手段と、チャンバ内に前記洗浄されたワークを設置し、該ワークに薄膜を形成する真空成膜装置と、を有し、前記洗浄手段によって洗浄されたワークの前記真空成膜装置のチャンバへの設置が、真空雰囲気を介して行われることを特徴とする真空成膜システム。

Fターム (4件)：

4K029FA04 , 4K029FA05 , 4K029FA06 , 4K029KA09

引用特許：

審査官引用 (15件)

特開平4-017673
特開平3-226555
金属薄板に対する連続薄膜形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-043809 出願人：日本鋼管株式会社

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