特許

J-GLOBAL ID：200903096039219525

ウエハマウンタ

発明者： 齋田 誠二 ,  内田 弘之 ,  和田 茂 ,  高津 知道 ,  林 隆史
出願人/特許権者： 東洋化学株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-201026
公開番号（公開出願番号）：特開2000-031249
出願日： 1998年07月16日
公開日（公表日）： 2000年01月28日
要約：

【要約】【課題】従来のウエハマウンタでは、半導体ウエハに粘着シートを貼り付けた後、紫外線照射機へ移送して紫外線照射をしなければならなかった。【解決手段】半導体ウエハの上面又は下面に粘着シートを貼り付けるウエハマウンタにおいて、該半導体ウエハに貼り付けられた該粘着シートへ紫外線を照射する紫外線照射機を搭載する。

請求項（抜粋）：

半導体ウエハの上面又は下面に粘着シートを貼り付けるウエハマウンタにおいて、該半導体ウエハに貼り付けられた該粘着シートへ紫外線を照射する紫外線照射機を搭載したことを特徴とするウエハマウンタ。

IPC (2件)：

H01L 21/68 ,  H01L 21/301

FI (2件)：

H01L 21/68 N ,  H01L 21/78 M

Fターム (2件)：

5F031KK11 ,  5F031KK15

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭60-031918
  
• 特開平4-322446
  
• 基板支持具およびこれを用いた基板の異物除去方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-182861   出願人：日東精機株式会社
• 特開昭62-219650