特許
J-GLOBAL ID：200903096047279421
プラズマディスプレイパネル用ガラス基板の焼成方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
青山 葆 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-207914
公開番号（公開出願番号）：特開2000-040470
出願日： 1998年07月23日
公開日（公表日）： 2000年02月08日
要約：
【要約】【課題】 プラズマディスプレイパネル内への不純ガスの混入を少なくすることのできるプラズマディスプレイパネル用ガラス基板の焼成方法を提供する。【解決手段】 プラズマディスプレイパネル用ガラス基板W上に形成された被焼成物質を焼成するに際し、ガラス基板を大気圧下で前記被焼成物質の焼成温度域に所定時間保持して被焼成物質を焼成したのち、前記焼成温度域以下の高温状態を維持しながら減圧下で所定時間保持して前記被焼成物質から発生する分解ガスの残留分を真空排気し、その後、大気圧下で所定温度まで冷却するプラズマディスプレイパネル用ガラス基板の焼成方法。
請求項（抜粋）：
プラズマディスプレイパネル用ガラス基板上に形成された被焼成物質を焼成するに際し、前記ガラス基板を大気圧下で前記被焼成物質の焼成温度域に所定時間保持して被焼成物質を焼成したのち、前記焼成温度域以下の高温状態を維持しながら減圧下で所定時間保持して前記被焼成物質から発生する分解ガスの残留分を真空排気し、その後、大気圧下で所定温度まで冷却することを特徴とするプラズマディスプレイパネル用ガラス基板の焼成方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01J 9/40 A
, H01J 11/02 D
5C012AA05
, 5C040AA04
, 5C040DD07
