特許
J-GLOBAL ID:200903096069339193
洗浄剤組成物
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-000303
公開番号(公開出願番号):特開2002-201492
出願日: 2001年01月05日
公開日(公表日): 2002年07月19日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】 洗浄工程、時にハンダフラックスの除去、および金属部品、セラミック部品等の脱脂洗浄に有用であり、被洗浄物への腐食等の影響を抑制でき、高品位な洗浄性、環境特性、臭気、引火性など満足しうる洗浄剤組成物を提供する。【解決手段】 一般式1のイミダゾリジノン類(A)、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル等のノニオン性界面活性剤(B)を有効成分とする洗浄剤組成物。成分A,Bはそれぞれ通常0.1〜97重量%配合される。本組成物には更にポリオキシアルキレンリン酸エステル等、界面活性剤(C)およびポリオキシアルキレンアミン系、界面活性剤(D)を配合することが好ましい。(R1とR2は水素またはC1〜5の直鎖/分岐鎖のアルキル基を表す。)
請求項(抜粋):
式[1]:【化1】(式中、R1は水素原子または炭素数1〜5の直鎖もしくは分岐鎖のアルキル基を、R2は水素原子または炭素数1〜5の直鎖もしくは分岐鎖のアルキル基を表す。)で表される化合物(A)、ノニオン性界面活性剤(B)を有効成分として含有してなる洗浄剤組成物。
IPC (6件):
C11D 3/28
, C11D 1/34
, C11D 1/44
, C11D 1/72
, C11D 3/20
, C11D 3/43
FI (6件):
C11D 3/28
, C11D 1/34
, C11D 1/44
, C11D 1/72
, C11D 3/20
, C11D 3/43
Fターム (10件):
4H003AB39
, 4H003AC08
, 4H003AE02
, 4H003DA15
, 4H003ED02
, 4H003ED28
, 4H003ED31
, 4H003FA01
, 4H003FA15
, 4H003FA25
引用特許:
出願人引用 (6件)
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洗浄剤組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-138497
出願人:荒川化学工業株式会社
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スクリーン版用洗浄剤
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-125510
出願人:株式会社槌屋
-
特開昭63-050838
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レジスト剥離剤
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-125643
出願人:日東電工株式会社
-
特開平4-034000
-
特開昭61-091299
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審査官引用 (5件)
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洗浄剤組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-138497
出願人:荒川化学工業株式会社
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スクリーン版用洗浄剤
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-125510
出願人:株式会社槌屋
-
特開昭63-050838
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レジスト剥離剤
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-125643
出願人:日東電工株式会社
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特開平4-034000
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