特許
J-GLOBAL ID:200903096159151800
単結晶引上装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
曾我 道照 (外6名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-138133
公開番号(公開出願番号):特開平8-333190
出願日: 1995年06月05日
公開日(公表日): 1996年12月17日
要約:
【要約】【目的】 ルツボの融液部に磁場を印加して単結晶を生成する単結晶引上装置において、磁界発生部の形状、取付方法、励磁の方法等を改良し、省電力で安価でかつ漏れ磁界の小さい単結晶引上装置を得ることを目的とする。【構成】 単結晶引上装置に備わった磁界発生部200を単結晶引上部100のチャンバ12に固定し、電磁力をチャンバ12で支持しする。また、超電導コイル201、202および保冷容器17a、17bの形状をチャンバ12の形状に沿ったものにする。
請求項(抜粋):
ルツボに充填された単結晶原料融液に種結晶を挿入し、この種結晶を引き上げることにより単結晶を生成する単結晶引上部と、この単結晶引上部の両側に設けられたコイルを含み、単結晶原料融液部に水平方向の磁界を与える磁界発生部と、からなる単結晶引上装置において、上記磁界発生部のコイルをそれぞれ上記単結晶引上部に取り付ける支持構造を備えたことを特徴とする単結晶引上装置。
IPC (5件):
C30B 15/00
, C30B 15/22
, C30B 29/06 502
, C30B 30/04
, H01L 21/208
FI (5件):
C30B 15/00 Z
, C30B 15/22
, C30B 29/06 502 G
, C30B 30/04
, H01L 21/208 P
引用特許:
審査官引用 (10件)
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特開昭59-195595
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特開昭60-016891
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特開昭59-121185
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特開昭60-171292
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特開昭62-003093
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特開昭63-285189
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特開平4-012083
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特開昭58-217493
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特開昭61-222984
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シリコン単結晶の育成方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-237911
出願人:日本電気株式会社
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