特許
J-GLOBAL ID：200903096194042631

クリーニング方法及びクリーニングガス生成装置

発明者：
本郷 俊明

本郷 俊明 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 浅井 章弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-181667
公開番号（公開出願番号）：特開2000-003907
出願日： 1998年06月13日
公開日（公表日）： 2000年01月07日
要約：
【要約】【課題】 成膜装置の処理容器内等にプラズマによるダメージを与えることなくクリーニングを行なうことができるクリーニング方法を提供する。【解決手段】 被処理体Wに成膜を施す成膜装置2内の付着生成物を、クリーニングガスとしてNF系ガスを用いて除去するクリーニング方法において、前記NF系ガスを、前記成膜装置以外の部分でガス励起手段70によって励起して活性化させることによって活性ガスを形成する活性ガス生成工程と、前記活性ガスを前記成膜装置内へ導入して前記付着生成物を除去するクリーニング工程とを備えるようにする。これにより、成膜装置の処理容器内等にプラズマによるダメージを与えることなくクリーニングを行なう。
請求項（抜粋）：
被処理体に成膜を施す成膜装置内の付着生成物を、クリーニングガスとしてNF系ガスを用いて除去するクリーニング方法において、前記NF系ガスを、前記成膜装置以外の部分でガス励起手段によって励起して活性化させることによって活性ガスを形成する活性ガス生成工程と、前記活性ガスを前記成膜装置内へ導入して前記付着生成物を除去するクリーニング工程とを備えたことを特徴とするクリーニング方法。
IPC (2件)：
H01L 21/31 ,  H01L 21/285
FI (2件)：
H01L 21/31 C ,  H01L 21/285 C
Fターム (15件)：
4M104AA01 ,  4M104AA10 ,  4M104BB14 ,  4M104BB16 ,  4M104BB18 ,  4M104BB30 ,  4M104BB33 ,  4M104CC01 ,  4M104DD44 ,  4M104DD99 ,  5F045EB06 ,  5F045EE06 ,  5F045EE13 ,  5F045EF05 ,  5F045EH13
引用特許：
審査官引用 (5件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM