特許

J-GLOBAL ID：200903096235703583

常圧プラズマエッチング方法

発明者： 宮本 栄司 ,  野上 光秀
出願人/特許権者： 積水化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-352846
公開番号（公開出願番号）：特開2004-183063
出願日： 2002年12月04日
公開日（公表日）： 2004年07月02日
要約：

【課題】常圧プラズマエッチング装置において、エッチング条件のデータ採取の時間と労力を削減する。【解決手段】常圧プラズマエッチング装置Mの吹出し孔からのプラズマ化処理ガスの吹出し流量と、吹出し孔を囲む吸込み孔からの吸込み流量との比のみを変えた複数の実験データを行なう。この実験結果から上記流量比とエッチングプロファイルとの対応関係を近似化しておく。この対応関係に基づいて所望のプロファイルのエッチングを行う。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

略常圧の環境下で処理ガスをプラズマ化して吹出し孔から被処理物へ吹き出すことによりエッチングし、上記吹出し孔を囲むように設けられた吸込み孔から吸い込んで排気する常圧プラズマエッチング方法であって、 上記吹出しと吸込みの流量比のみを変えた複数の実験データから上記流量比とエッチングプロファイルとの対応関係を近似化しておき、この対応関係に基づいて所望のプロファイルのエッチングを行うことを特徴とする常圧プラズマエッチング方法。

IPC (4件)：

C23F4/00 ,  B01J19/08 ,  H01L21/3065 ,  H05H1/24

FI (4件)：

C23F4/00 A ,  B01J19/08 H ,  H05H1/24 ,  H01L21/302 101E

Fターム (26件)：

4G075AA24 ,  4G075AA30 ,  4G075AA67 ,  4G075BC06 ,  4G075DA02 ,  4G075DA18 ,  4G075EB01 ,  4G075EB43 ,  4G075FA01 ,  4K057DA12 ,  4K057DD01 ,  4K057DE08 ,  4K057DE20 ,  4K057DG15 ,  4K057DM36 ,  4K057DM37 ,  4K057DM39 ,  5F004AA16 ,  5F004BA20 ,  5F004BB11 ,  5F004BB28 ,  5F004CA08 ,  5F004DA00 ,  5F004DA01 ,  5F004DA26 ,  5F004DB00

引用特許：

審査官引用 (4件)

• プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-103574   出願人：セイコーエプソン株式会社, 日本真空技術株式会社
• 特開平2-100318
  
• プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-277359   出願人：シャープ株式会社
• 表面処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-012347   出願人：セイコーエプソン株式会社